[实用新型]一种新型PECVD上镀膜载板有效
| 申请号： | 201420236062.8 | 申请日： | 2014-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN203820885U | 公开（公告）日： | 2014-09-10 |
| 发明（设计）人： | 武同乐;张金伟;陈哲 | 申请（专利权）人： | 英利能源（中国）有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458;H01L21/673 |
| 代理公司： | 石家庄国为知识产权事务所 13120 | 代理人： | 陆林生 |
| 地址： | 071051 河*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 新型 pecvd 镀膜 | ||
【权利要求书】：
1.一种新型PECVD上镀膜载板，包括载板本体，所述载板本体为石墨材质的框架形结构，其特征在于所述载板本体的边框内沿（1）均为斜面，边框外沿（3）保持原有的截面，载板本体的内角处均设有卡角（2），所述卡角（2）为1/4的圆弧板，其上下两个端面与斜面的下端平齐。
2.根据权利要求１所述的一种新型PECVD上镀膜载板，其特征在于处于所述载板本体内部的框架，其表面为两个对称的斜面，两个斜面的上端重合。
3.根据权利要求2所述的一种新型PECVD上镀膜载板，其特征在于所述卡角（2）的两个直角边长相等，并且直角边与内框的长度比例为：1/10～1/15。
4.根据权利要求3所述的一种新型PECVD上镀膜载板，其特征在于所述斜面的垂直方向高度与所承载的硅片高度相同，斜面的水平方向宽度为原框架宽度的1/2。
5.根据权利要求1所述的一种新型PECVD上镀膜载板，其特征在于所述圆弧板的直角边向弧形边中线过渡中，其板的厚度逐渐减小，使弧形板形成中线处的厚度小于直线边处厚度。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
