[实用新型]真空减压干燥设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及显示器件制造技术领域，尤其涉及一种真空减压干燥设备。

背景技术

在液晶显示器的彩膜基板生产过程中，真空减压干燥(Vacuum Dry,简称VCD)和亮度不均Mura区域检测是两道重要的工序。具体地，首先进行VCD工序，将基板放入VCD设备内进行干燥处理；在VCD工序结束后由机械手将基板从VCD设备中取出并放置在传送带上，Mura检测设备在基板传送过程中对基板进行图像捕捉，之后对捕捉到的基板图像进行检测。然而，上述VCD和Mura区域检测的过程复杂，使得彩膜基板的生产效率较低。

实用新型内容

本实用新型提供一种真空减压干燥设备，能够提高液晶显示器的彩膜基板的生产效率

为解决上述技术问题，本实用新型采用如下技术方案：

提供一种真空减压干燥设备，包括：

上盖和底座，所述上盖与所述底座之间形成腔室；

所述腔室中设置有可开合的挡板，所述挡板在闭合时将所述腔室分隔为上腔室和下腔室；

所述上腔室中设置有朝向所述下腔室的摄像头和光源；

所述下腔室壁上设置有抽气口。

具体地，所述抽气口设置于所述下腔室的侧壁上。

具体地，所述光源为面光源。

进一步地，所述可开合的挡板包括多个单元板，当所述挡板闭合时，所述多个单元板拉伸为板状结构，当所述挡板打开时，所述多个单元板收缩至相互重叠。

具体地，所述下腔室的底部设置有多个支撑针。

具体地，所述上盖和底座周围设置有不透光的围栏。

具体地，所述挡板和所述抽气口设置于所述上盖上。

具体地，上述真空减压干燥设备还包括：连接于所述摄像头的亮度不均检测装置。

本实用新型提供的真空减压干燥设备，将连接Mura检测单元的摄像头设置于真空减压干燥设备的上盖内部上腔室内，将VCD设备和Mura检测设备结合在一起，在对基板进行真空减压干燥处理后摄像头能够直接对基板拍照获取图片进行Mura检测，不再需要机械手将基板从VCD设备取出并放置于传送带上，也不再需要传送带在Mura检测过程中传送基板，能够降低成本，节约时间，提高生产效率。且现有技术中的动态拍摄过程会因为拍摄过程中的不稳定造成图片所示与基板实际情况不符合，本实用新型中进行Mura检测时的拍摄的过程为静态拍摄，静态拍摄能够使拍摄过程更加稳定，避免拍摄到的图片与基板实际情况不符合。另外，现有技术在新型号的基板首次跑片时需要人为操作对光源或摄像头进行调整以获取Mura检测中的标准画面，而本实用新型中进行Mura检测时的拍摄的过程为静态拍摄，因此即便基板的型号进行了改变，也无需对光源或摄像头进行调整，都能够得到完整准确的画面，从而能够节约时间，提高生产效率。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型中一种真空减压干燥设备的结构示意图；

图2为图1的真空减压干燥设备挡板打开之后的示意图；

图3为图1的真空减压干燥设备的上盖内部仰视图；

图4为图1的真空减压干燥设备中的挡板打开时的示意图；

图5为图1的真空减压干燥设备中的挡板闭合时的示意图；

图6为本实用新型中另一种真空减压干燥设备的结构示意图；

图7为图6的真空减压干燥设备挡板打开之后的示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。