[实用新型]一种用于测量立式炉温度的热偶升降装置

说明书

技术领域

本发明涉及测温装置，具体地说，涉及一种用于测量立式炉温度的热偶升降装置。

背景技术

氧化炉是用于硅片进行氧化、退火等热处理工艺的半导体设备，现在的氧化炉分为立式结构和卧式结构，其中，卧式结构的氧化炉温度均匀性及控温精度不够理想，自动化程度低，但硅片的制造有极高的外界环境要求，从而保证生产出的硅晶片质量，因此，硅片的制造通常采用立式氧化炉。

目前，对立式炉炉体进行温度数据采集通常采用热偶测量，但现有的测量装置存在一些问题：1.现有的热偶升降装置是型材组装的，现有型材通常固定在简易的支架上，型材组装容易松动，影响热偶测量值的准确性；2.由于夹持热偶的悬臂长度较短且固定，在炉体内测量温度时不够灵活，尤其当立式炉空间狭小时，悬臂不能与炉体空间相适应；3.现有的热偶测量数据的准确性较低。因此，对现有的热偶升降装置进行改进成为本领域技术人员亟待解决的问题。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种用于测量立式炉温度的热偶升降装置，防止型材松动，提高装置的稳定性。

为了解决上述技术问题，本发明提供了一种用于测量立式炉温度的热偶升降装置，包括电机、升降支架、带轮导轨组件、悬臂机构、金属盘底座；所述升降支架的一侧连接带轮导轨组件且所述升降支架的下方固定连接金属盘底座，所述金属盘底座上设有电机以及PLC控制系统，所述电机驱动所述带轮导轨组件并带动所述悬臂机构做上下运动，所述PLC控制系统控制所述电机从而调整所述悬臂机构在所述升降支架上的位置。

优选的，所述金属盘底座设有3个可调节金属盘底座高度的支撑腿。

优选的，各支撑腿下端连接使金属盘底座保持水平的地脚。

优选的，所述升降支架上设有用于检测所述悬臂机构位置的传感器，所述传感器将悬臂机构的位置参数反馈给所述PLC控制系统。

优选的，所述金属盘底座下方设有电源，所述电源为所述传感器及所述PLC控制系统提供电能。

优选的，所述悬臂机构包括悬臂及热偶夹持部，所述悬臂可伸缩，所述热偶夹持部用于夹持热偶。

优选的，所述悬臂包括第一悬臂及第二悬臂，所述第一悬臂相对于所述第二悬臂可伸缩且两者之间设有紧固装置。

优选的，所述升降支架与所述金属盘底座之间通过螺栓螺母固定连接。

本发明通过增设金属盘底座，提高了升降支架的稳定性，有效把升降支架的重心降低，使装置更稳，更安全，使升降支架不易松动；可调节的悬臂使热偶测量温度更加灵活，从而适应不同的炉体空间；通过PLC控制系统可控制热偶升降位置从而提高热偶测量数据的准确性，提高了工作效率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明用于测量立式炉温度的热偶升降装置的结构示意图；

图中标号说明如下：

1、电机；2、升降支架；3、带轮导轨组件；31、皮带；32、带轮；4、悬臂机构；40、悬臂；41、第一悬臂；42、第二悬臂；43、热偶夹持部；5、传感器；51、上限位传感器；52、复位传感器；53、下限位传感器；6、PLC控制系统；7、金属盘底座；8、支撑腿；9、地脚；10、电源；11、传感器挡片。

具体实施方式

以下将配合图式及实施例来详细说明本发明的实施方式，藉此对本发明如何应用技术手段来解决技术问题并达成技术功效的实现过程能充分理解并据以实施。

如图1所示，本发明提供了一种用于测量立式炉温度的热偶升降装置，包括电机1、升降支架2、带轮导轨组件3、悬臂机构4、金属盘底座7；升降支架2的一侧连接带轮导轨组件3且升降支架2的下方固定连接金属盘底座7，金属盘底座7上设有电机1以及PLC控制系统6，电机1驱动带轮导轨组件3并带动悬臂机构4做上下运动，PLC控制系统6控制电机1从而调整悬臂机构4在升降支架2上的位置。

其中，升降支架2与金属盘底座7之间通过螺栓螺母固定连接，悬臂机构4包括悬臂40及热偶夹持部43，悬臂40固定连接用于夹持热偶的热偶夹持部43，所述悬臂机构4上还设有与传感器5配合的传感器挡片11，所述传感器挡片11用于传送悬臂机构4的位置信号给传感器5。