[实用新型]一种摩擦设备

权利要求书

1.一种摩擦设备，其特征在于，所述摩擦设备包括：

基台，用于承载至少一个被摩擦件；

清洁装置，与所述基台相对设置，用于清洁所述被摩擦件；

摩擦辊，位于所述基台和所述清洁装置之间，用于摩擦所述被摩擦件；

驱动件，用于驱动所述摩擦辊相对于所述基台转动，以摩擦所述被摩擦件。

2.如权利要求1所述的摩擦设备，其特征在于，所述清洁装置包括腔体、高压气体入口和真空吸附口，所述高压气体入口和所述真空吸附口均与所述腔体连通。

3.如权利要求2所述的摩擦设备，其特征在于，所述高压气体入口的数目至少为两个，分别开设于所述清洁装置的相对两侧面上，所述真空吸附口开设于所述清洁装置上与所述被摩擦件相背的表面的中部。

4.如权利要求3所述的摩擦设备，其特征在于，所述至少两个高压气体入口开设于所述清洁装置上与所述摩擦辊的轴向两端相对应的两个侧面上。

5.如权利要求1-4中任一权要求所述的摩擦设备，其特征在于，所述清洁装置在所述摩擦辊上平行于所述基台的径向方向上两侧边缘的厚度大于中间部分的厚度。

6.如权利要求1所述的摩擦设备，其特征在于，所述清洁装置包括第一清洁部、第二清洁部和连接所述第一清洁部和所述第二清洁部的连接部，所述第一清洁部上开设有第一腔体和至少一与所述第一腔体连通的第一高压气体入口，所述第二清洁部上开设有第二腔体和至少一与所述第二腔体连通的第二高压气体入口，所述连接部上开设有第三腔体和至少一与所述第三腔体连通的真空吸附口，所述第一腔体和第二腔体与所述第三腔体连通。

7.如权利要求6所述的摩擦设备，其特征在于，所述第一清洁部和所述第二清洁部在所述基台上的投影位于所述摩擦辊在所述基台上的投影的相对两侧。

8.如权利要求6或7所述的摩擦设备，其特征在于，所述第一清洁部和所述第二清洁部中每个清洁部在所述摩擦辊上平行于所述基台的径向方向上两侧边缘的厚度大于中间部分的厚度。

9.如权利要求1所述的摩擦设备，其特征在于，所述摩擦设备还包括对位汽缸，所述对位汽缸用于调整所述摩擦辊的位置。

10.如权利要求9所述的摩擦设备，其特征在于，所述摩擦设备还包括检测装置和控制器，所述检测装置用于检测所述摩擦辊的位置信息，并将所述位置信息发送给所述控制器，所述控制器根据所述位置信息控制所述对位汽缸调整所述摩擦辊的位置。