[实用新型]一种压铸覆底锅有效

专利信息
申请号: 201420178997.5 申请日: 2014-04-14
公开(公告)号: CN203749161U 公开(公告)日: 2014-08-06
发明(设计)人: 应益峰 申请(专利权)人: 浙江泰丰旅游用品制造有限公司
主分类号: A47J27/00 分类号: A47J27/00
代理公司: 浙江翔隆专利事务所(普通合伙) 33206 代理人: 张建青
地址: 321200 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 压铸 覆底锅
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及锅具,具体地说是一种用于电磁炉的压铸覆底锅。

背景技术

目前,可用于电磁炉的覆底锅多为采用机械将不锈铁覆底片和锅体挤压成型的机械铆合式覆底锅,由于这种覆底锅锅体底部与不锈铁覆底片通过铆钉铆合,不锈铁覆底片上有铆合通孔,其底部产生涡流的金属部分实际有效面积较小,故热效率较低,且存在模具及零部件制造复杂,连接强度差等缺陷;而不锈铁覆底片不平整,不仅影响美观,而且对电磁炉表面也会造成损伤。

也有的覆底锅采用大吨位压机将一片大的覆底片直接压入锅体底部的凹槽中,使两者复合成一体结构,由于覆底片只有一片,覆底片与锅体底部结合时对大吨位压机的压力要求较高,生产难度大,易产生气泡,结合力不牢等缺陷,使用长久后,还是会发生覆底片脱落的现象。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是克服上述现有技术存在的缺陷,提供一种覆底片与锅体底部结合稳定、牢固的压铸覆底锅。

为此,本实用新型采用如下的技术方案:一种压铸覆底锅,包括铝合金锅体和多个覆底片,锅体的底部形成多个用于放置覆底片的容纳槽,其特征在于,位于容纳槽侧壁下方的容纳槽底部形成一圈小凹槽,位于容纳槽口部周边的锅体底部上形成一圈凸筋;所述覆底片的底部外缘形成一圈向外倾斜的凸角,所述的凸角置于所述的小凹槽中;

所述容纳槽的侧壁为由下向上向外倾斜的斜面,所述的覆底片侧面为由上向下向外倾斜的斜面;在容纳槽内放入覆底片后且凸筋未被压平前,覆底片的侧面与容纳槽的侧壁之间形成间隙;当凸筋被压平后,容纳槽的侧壁紧压在覆底片的侧面上。

本实用新型的覆底片为多个,降低了对压机的压力要求;容纳槽与覆底片通过小凹槽与凸角的配合结构及凸筋结构实现了锅体底部与覆底片之间的紧密结合,能有效避免使用长久后覆底片的脱落。

作为优选,所述小凹槽的截面呈三角形,加工和装配方便。

作为优选,所述凸角的倾斜角度为10-45度,此角度使覆底片的侧面与容纳槽的侧壁之间的间隙合适,凸筋被压平后,容纳槽的侧壁能有效紧压在覆底片的侧面上。

作为优选,所述的多个容纳槽呈周向均布,使覆底片均布在锅体底部上;所述的容纳槽呈梯形,符合锅体底部内圈小外圈大的特点,锅体底部内圈和外圈上的覆底面积差不多,锅体底部的发热量均匀。

作为优选,所述覆底片的形状与容纳槽的形状匹配,使两者结合更为紧密。

本实用新型具有的有益效果:利用小凹槽与凸角的配合结构及凸筋结构,实现了锅体底部与覆底片之间的紧密结合,能有效避免使用长久后覆底片的脱落,延长了压铸覆底锅的使用寿命。

附图说明

图l为本实用新型锅体的结构示意图。

图2为图1中A处的放大图。

图3为本实用新型覆底片的结构示意图。

图4为本实用新型覆底片装入容纳槽后的结构示意图(凸筋未被压平前)。

图5为图4中B处的放大图。

图6为本实用新型覆底片与容纳槽装配后的结构示意图(凸筋被压平后)。

图7为图6的俯视图。

图中,1-锅体,2-覆底片,3-容纳槽,4-小凹槽,5-凸筋,6-凸角,7-间隙。

具体实施方式

以下将结合说明书附图并通过具体实施方式对本实用新型作进一步的描述。

如图1-4所示的压铸覆底锅,其由锅体1和多个覆底片2装配而成,锅体1的底部形成多个用于放置覆底片的容纳槽3,所述的多个容纳槽3呈周向均布,容纳槽3呈梯形,覆底片2的形状与容纳槽3的形状匹配,容纳槽3的深度与覆底片等厚。

位于容纳槽侧壁下方的容纳槽底部形成一圈小凹槽4,该小凹槽4的截面呈三角形,其深度一般为0.1-1.0mm。位于容纳槽口部周边的锅体底部上形成一圈凸筋5,其高度一般为0.5-1.0mm,宽度一般为2-5mm,截面呈上小下大的三角形。覆底片2的底部外缘形成一圈向外倾斜的凸角6,该凸角6置于所述的小凹槽4中,其倾斜角度为10-45度。

所述容纳槽3的侧壁为由下向上向外倾斜的斜面,所述的覆底片2侧面为由上向下向外倾斜的斜面;在容纳槽内放入覆底片后且凸筋未被压平前,覆底片的侧面与容纳槽的侧壁之间形成间隙7;当凸筋5被压平后,容纳槽的侧壁紧压在覆底片的侧面上。

以上仅就本实用新型较佳的实施例作了说明,但不能理解为是对权利要求的限制。本实用新型不仅局限于以上实施例,其具体结构允许有变化。凡在本实用新型独立权利要求的保护范围内所作的各种变化均在本实用新型的保护范围内。

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