[实用新型]一种脱除甲基氯硅烷合成气中固体颗粒的塔设备有效

专利信息
申请号: 201420176418.3 申请日: 2014-04-11
公开(公告)号: CN203816419U 公开(公告)日: 2014-09-10
发明(设计)人: 赵华 申请(专利权)人: 天津市华瑞奕博化工科技有限公司
主分类号: B01D47/12 分类号: B01D47/12;C07F7/20;C07F7/16
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 宋洁瑾
地址: 300384 天津市南开*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 脱除 甲基 硅烷 合成气 固体 颗粒 设备
【说明书】:

技术领域

实用新型属于有机硅生产领域,涉及甲基氯硅烷与硅粉及催化剂等固体颗粒的分离塔,具体涉及有机硅生产过程中洗涤脱去甲基氯硅烷合成气中固体颗粒的塔设备。

背景技术

有机硅单体是以非金属硅粉和氯代烃为原料,在催化剂的作用下合成的。其制法主要有:有机金属化合物法、加成法、缩合法、再分配法和直接法。直接法具有原料易得、工序简单、不用溶剂、时空产率高,且易于实现连续化大生产等优点,一经问世便很快取代了其他合成方法,成为工业上生产甲基氯硅烷的唯一方法。采用直接法制备的甲基氯硅烷合成气中带有大约0.1%wt左右的硅粉及催化剂等固体颗粒。洗涤塔的作用就是除去甲基氯硅烷合成气中的固体颗粒。其合成气中只要有氯甲烷、三甲基氯硅烷、一甲基三氯硅烷、二甲基二氯硅烷、高沸物等。某工厂的合成气的组成为:

表1合成气组成

从以上表中可以看出,合成气中甲基氯硅烷含量较高,含有少量的固体颗粒和高沸物。这部分固体颗粒主要是反应物中的硅粉以及催化剂。这部分固体颗粒的存在,一部分增加了后续工艺的处理难度,同时也造成了昂贵的催化剂的损失。因此要脱除。但在脱除的同时应尽量减少甲基氯硅烷的损失。

在处理此类问题的时候,一般的处理工艺是仅用一个洗涤塔进行处理,处理效果是脱除了大量的固体颗粒,但在同时也带出了含量不低的甲基氯硅烷。这就造成了甲基氯硅烷的损失。

因此,找到一种将尽可能减少甲基氯硅烷损失的脱除合成气中固体颗粒的方法,对于降低整个有机硅生产工艺的成本,降低污染,提高有机氯硅烷中杂质的含量,是非常有意义的。

实用新型内容

为了解决现有技术中的问题,本实用新型提供了一种脱除甲基氯硅烷合成气中固体颗粒的塔设备,解决现有技术中脱除甲基氯硅烷合成气时甲基氯硅烷损失大的问题。

本实用新型是通过如下技术方案实现的:

一种脱除甲基氯硅烷合成气中固体颗粒的塔设备,包括洗涤塔,所述洗涤塔设有进料口及排渣口,所述洗涤塔的进料口为低位进料口,设置于塔底排渣口的侧面管线与排渣口共用一个口,所述洗涤塔塔底侧线出口与高温搅拌釜相连接。

所述洗涤塔上部采用筛板塔盘,下部采用穿流塔盘。所述筛板塔盘占总塔盘数的2/3,穿流塔盘占总塔盘数的1/3。

本实用新型的有益效果为:

1.在高温搅拌釜的作用下,将搅拌釜中的气相返回洗涤塔,减少了甲基氯硅烷的损失,使得排放物中夹带的甲基氯硅烷单体含量由原来的25%降到5.8%。

2.上部采用筛板塔盘,下部仍采用抗堵塞效果好的穿流塔盘,这样可以减小塔顶压力的波动,并且也不会出现塔盘被堵塞的现象。

3.由于进料位置与排渣口相同,在进料的同时也可以防止固体颗粒在排渣口处沉积,堵塞排渣口,洗涤塔排渣口的堵塞问题得到了解决。

4.达到了在保证除尘的基础上,又除处一部分高沸物的指标。

附图说明

图1为是原工艺塔设备的结构示意图;

图2是本实用新型塔设备的结构示意图;

其中,1,进料口;2,气相出料口;3,洗涤液进料口;4,洗涤液排放口;5,高温搅拌釜;6,排渣口;7,洗涤塔;8,筛板塔盘;9,穿流塔盘。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作详细说明。

如图2所示,本实用新型的脱除甲基氯硅烷合成气中固体颗粒的塔设备,包括洗涤塔7,所述洗涤塔7设有进料口1及排渣口6,所述洗涤塔7的进料口1为低位进料口,设置于塔底排渣口6的侧面管线与排渣口6共用一个口,所述洗涤塔7塔底侧线出口与高温搅拌釜5相连接。所述洗涤塔7上部采用筛板塔盘8,下部采用穿流塔盘9。所述筛板塔盘8占总塔盘数的2/3,穿流塔盘9占总塔盘数的1/3。

前序工段的合成气经过低位进料口1进入甲基氯硅烷洗涤塔7,在该塔内经过下层穿流塔盘9和上层筛板塔盘8洗涤液的洗涤,脱除了固体颗粒,塔顶形成脱除了固体颗粒的气相,在气相出料口2处得到精致合成气,在塔底得到洗涤液和固体颗粒的混合物。在塔底侧线出口,液相进入高温搅拌釜5,在高温搅拌釜5的作用下,将搅拌釜中的气相返回洗涤塔7,液相作为排放物排出系统。沉淀下来的固体经排渣口6排出。由于进料位置与排渣口6相同,在进料的同时也可以防止固体颗粒在排渣口处沉积,堵塞排渣口6。

洗涤塔的操作压力为1.0-1.5MPaG,塔底温度采用常温即可。

所采用的搅拌釜为高温搅拌釜,操作温度为82℃。

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