[实用新型]一种矿用喷雾装置有效
申请号: | 201420167749.0 | 申请日: | 2014-04-08 |
公开(公告)号: | CN203742656U | 公开(公告)日: | 2014-07-30 |
发明(设计)人: | 李传迅 | 申请(专利权)人: | 李传迅 |
主分类号: | E21F5/04 | 分类号: | E21F5/04 |
代理公司: | 北京双收知识产权代理有限公司 11241 | 代理人: | 王菊珍 |
地址: | 230000 安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 喷雾 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种矿用装备,特别涉及一种矿用喷雾装置。
背景技术
目前大部分矿用喷雾装置在水气混合后,水雾直接由高压喷射管喷射出,由于水雾只经过高压喷射管的一级雾化,雾化后的水雾仍含有直径较大的水珠颗粒,由于水珠在空中悬停时间短,导致净化除尘差、地面积水巷道鼔底。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种矿用雾化装置,该矿用雾化装置能提高雾化质量,达到干雾的效果。
为实现上述目的,本实用新型提供以下的技术方案:一种矿用喷雾装置,包括储水缸、雾化缸,所述储水缸与雾化缸均为圆柱形,所述雾化缸的一端连接一个进气管,进气管与雾化缸的端面垂直,雾化缸在靠近连接进气管一端的圆柱面通过自吸管与储水缸联通,自吸管与雾化缸和储水缸分别垂直,所述雾化缸的另一端连接软管,所述软管连接到喷管,喷管上均匀安装若干喷头,喷管与水平面平行,所述储水缸的进水口处通过减压限流阀与进水管连接,所述储水缸通过支腿放置于地面上,雾化缸通过支架和自吸管与储水缸连接,雾化缸和储水缸均与水平面平行,且雾化缸与储水缸轴线处于同一垂直面上。
优选的,储水缸的底部设置排污口,所述排污口的轴线与自吸管的轴线重合。
优选的,喷头设有五个,所述五个喷头从左到右与喷管的夹角依次为150°、120°、90°、60°、30°。
采用上述技术方案,由于雾化缸与储水缸位于不同水平面,而钢管分别与雾化缸和储水缸垂直,进气管又与雾化缸的端面垂直,因而储水缸中的水进入雾化缸时的运动方向与雾化缸垂直,水在高压射流的作用下冲击到雾化缸的缸壁上,从而使水雾化,雾化后的水雾则随气压流动至喷管内,水雾需要经喷头喷出,而喷头则再次使水雾得到雾化,从而使水流得到二次雾化,该装置使水充分雾化,提高雾化质量,使水雾达到干雾的效果。
储水缸的底部设置排污口,所述排污口的轴线与自吸管的轴线重合,便于在检修自吸管,避免自吸管堵塞;喷头设有五个,所述五个喷头从左到右与喷管的夹角依次为150°、120°、90°、60°、30°,可以使喷出的水雾分散,增加雾化面积。
附图说明
图1是本实用新型结构示意图;
其中,1.储水缸 2.雾化缸 3.支腿 4.进气管 5.自吸管 6.喷管 7.喷头 8.软管 9.排污口 10.进水管 11.支架。
具体实施方式
下面结合附图,通过对实施例的描述,对本实用新型做进一步说明:
如图1所示,本实用新型一种矿用喷雾装置,包括储水缸1、雾化缸2,储水缸1与雾化缸2均为圆柱形,储水缸1通过支腿3放置于地面,雾化缸2的一端连接进气管4,进气管4与雾化缸2的端面垂直,雾化缸2在靠近连接进气管4一端的圆柱面通过自吸管5与储水缸1联通,自吸管5与雾化缸2和储水缸1分别垂直,雾化缸2的另一端连接软管8,软管8连接到喷管6,喷管6上均匀安装五个喷头7,五个喷头7从左到右与喷管6的夹角依次为150°、120°、90°、60°、30°,喷管6与水平面平行,储水缸1的进水口处通过减压限流阀与进水管10连接,雾化缸2通过支架11和自吸管5与储水缸1连接,雾化缸2和储水缸1均与水平面平行,且雾化缸2与储水缸1轴线处于同一垂直面上。
采用上述技术方案,由于雾化缸2与储水缸1位于不同水平面,而钢管5分别与雾化缸2和储水缸1垂直,进气管4又与雾化缸2的端面垂直,因而储水缸1中的水进入雾化缸时的运动方向与雾化缸2垂直,水在高压射流的作用下冲击到雾化缸2的缸壁上,从而使水雾化,雾化后的水雾则随气压流动至喷管6内,而喷头7喷出水雾时再次使水雾雾化从而使水得到二次雾化,该装置使水充分雾化,提高了雾化质量。同时由于喷头7的排列方式是左到右与喷管6的夹角依次为150°、120°、90°、60°、30°,可以使喷出的水雾分散,增加雾化面积。
为方便检修自吸管5是否损坏,可以在储水缸1的底部设置排污口9,并使排污口9的轴线与自吸管5的轴线重合。
本实用新型一种矿用雾化装置在第一次使用时,可以通过调节减压阀的调整螺杆来调节水流量,直到从喷头7喷出的水雾雾化面积最大化,再次使用时则不需要再调节水流量,从而解决了一般雾化装置用水量大的问题。
以上所述的仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型创造构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。
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