[实用新型]一种自动喷釉装置有效
申请号: | 201420165786.8 | 申请日: | 2014-04-04 |
公开(公告)号: | CN203833834U | 公开(公告)日: | 2014-09-17 |
发明(设计)人: | 邱松辉 | 申请(专利权)人: | 邱松辉 |
主分类号: | C04B41/86 | 分类号: | C04B41/86 |
代理公司: | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人: | 龚燮英 |
地址: | 521000 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 自动 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及陶瓷生产设备技术领域,更具体地,涉及一种自动喷釉装置。
背景技术
目前,现有敞口陶瓷(例如杯、碗、壶等)坯件的生产基本已经实现全流程的流水线自动化,而其上釉工艺一般采用手工上釉。
手工上釉包括手工浸釉和手工喷釉两种方式。其中,手工浸釉是将陶瓷坯件浸入釉池,经过一段时间后将陶瓷坯件吊起,但是这种方式上釉厚度大,瓷坯件吊起后釉料会下坠(行内称为“挂釉”),造成上下部釉料厚薄不均匀,釉色不均匀,而且釉料耗用量大,生产效率低;而手工喷釉则是由工人手持喷釉枪进行喷釉,但是这种方式因为手持喷枪具有不稳定性,难以控制各件陶瓷坯件总体喷釉时间,也难以控制每件陶瓷坯件各个部位喷釉时间均匀,难以确保各个部位喷釉均匀,同样存在釉层不均匀的质量问题。
因此,手工上釉程序显得不协调。另外,手工上釉的方式浪费釉水,耗工量大,人力成本高,生产速度慢。
实用新型内容
本实用新型为克服上述现有技术所述的至少一种缺陷,提供一种自动喷釉装置,这种装置能够自动对陶瓷制品进行内外喷釉,上釉质量好,自动化水平高。
为解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案是:
提供一种自动喷釉装置,包括喷涂机架、输送组件和控制组件,所述喷涂机架内设有分别与所述控制组件电连接的喷涂组件和驱动所述输送组件的驱动电机组件,所述输送组件上设有用于放置喷涂工件并与所述驱动电机组件电连接的旋转机构,所述喷涂机架的左右两侧分别设有可供所述旋转机构通过的工件入口和工件出口,放置于所述输送组件上的所述喷涂工件从所述工件入口输入,经过所述喷涂组件喷涂后从所述工件出口输出。
进一步地,所述输送组件包括支撑骨架、输送架以及旋转机构,所述输送架可移动设于所述支撑骨架上方,所述旋转机构与所述驱动电机组件电连接并固设于所述输送架上。
作为改进,所述支撑骨架与所述输送架运动方向平行的两侧边上设有挡釉板,所述挡釉板之间的距离至少等于所述输送架的宽度,并且所述挡釉板的高度相对于所述输送架突出;所述支撑骨架底部设有支撑骨架脚轮。
作为进一步的改进,所述支撑骨架上在所述挡釉板的两侧边设有釉料回收槽。
进一步地,所述旋转机构包括转盘、依次设置于所述转盘下的导流板和挡流板,所述转盘设置于所述输送架上并通过转轴与所述驱动电机组件连接;所述输送架底部设有输送轮,所述输送轮在所述支撑骨架上运动。
上述方案中,所述喷涂组件包括固设于所述喷涂机架内的固定杆、若干设于所述固定杆下端呈周向布设的喷枪安装杆以及设于所述若干喷枪安装杆中心轴线上的中心喷轴,所述喷枪安装杆和所述中心喷轴上分别设有若干喷枪。
作为改进,所述喷枪安装杆上等距布设有若干用于固定喷枪安装板的安装孔,喷枪装设于所述喷枪安装板上。
作为改进,所述固定杆上设有与所述中心喷轴连接的升降机构,所述中心喷轴通过所述升降机构沿所述固定杆竖直上下移动。
其中,所述喷涂机架前侧设有门板组件,所述门板组件上设有透视窗和与所述控制组件电连接的触摸屏;所述喷涂机架上端设有与所述控制组件电连接的指示灯。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
本实用新型自动喷釉装置能够自动对陶瓷制品进行内外喷釉,由于控制组件的规律性、稳定性、准确性,可克服人工手持喷枪缺乏规律性、稳定性、准确性的缺点,不但节省人工,而且提高生产效率及喷釉质量。喷釉前,将喷涂工件放置于旋转机构上,输送组件在控制组件的作用下,将旋转机构连同喷涂工件一并从工件入口送入喷涂机架内;喷釉时,在旋转机构和喷涂组件的共同作用下,各喷釉枪在预先设定的情况下对喷涂工件喷出雾状釉料,使喷涂工件的内外得到准确上釉;喷釉后,输送组件在控制组件的作用下,将旋转机构连同喷涂工件一并从工件出口输送至喷涂机架外。该自动喷釉装置对陶瓷制品喷涂工件的喷釉效果好,陶瓷制品各部位的釉层均匀,釉色均匀,且各个陶瓷制品喷釉时间长度相等、准确,避免了喷釉不到位或不均匀等情况的出现。
附图说明
图1为本实用新型实施例自动喷釉装置的整体结构示意图。
图2为图1的俯视图。
图3为图1的右视图。
图4为输送组件的下部分结构示意图。
图5为图4的左视图。
图6为输送组件的上部分结构示意图。
图7为图6的俯视图。
图8为图6的左视图。
图9为图1中A-A截面视图。
图10为图9中B部分放大结构示意图。
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