[实用新型]一种指状电磁铁结构

说明书

技术领域

本实用新型涉及光学零件高精密加工领域，尤其涉及一种指状电磁铁结构。

背景技术

光学零件被广泛应用于工程领域中，无论从生产效率方面还是在加工精度和加工质量的稳定性方面，传统的光学加工方法都很难满足对光学零件提出的加工精度和表面质量的要求，因此研究一种具有高效率和高精度的光学零件加工方法具有重要的实际意义。

磁流变抛光作为一种新型的光学零件加工方法，它是通过梯度磁场使抛光盘和工件表面之间的磁流变液体的流变性能发生变化，在工件表面与磁流变液接触的区域产生较大的剪切力，从而使工件表面材料被去除。针对传统磁流变抛光区域小、磁场强度不均匀等缺点，现有发展出集群磁流变效应微磨头平面研抛加工技术，即将磁流变效应微磨头集群组合形成平面研磨盘用于超光滑平面研抛加工的新工艺方法。集群磁流变抛光技术具有磁场强度均匀、磨料分布均匀、抛光区域较大等优点，可以实现高效率高精度研抛加工目的。

磁场分布对集群磁流变抛光效果起着至关重要的作用，目前集群磁流变效应平面抛光装置的磁场是由若干个永磁铁产生，虽然这种磁场发生器结构较为简单且可以在不通电的情况下产生磁场，但是永磁铁的集群方式具有磁场强度较小且容易衰减、磁场强度不可调节、盘面上的磁场强度不均匀等缺点。而采用电磁铁可在盘面形成可调、强度较均匀的磁场，目前较为常用的电磁铁为条形间隙式电磁铁，其结构为包括U型铁芯，U型铁芯被激励线圈包扎，U型铁芯两端连接左磁极及右磁极，从而在左磁极和右磁极处形成条形间隙，虽然这种磁极结构利用间隙漏磁所产生的磁场满足精密加工对磁场的要求，但是两磁极间所产生的磁场是条型式磁场，导致磁场区域过小，满足不了大面积光学元件的加工。

授权公告号为CN202162633U的中国专利公开了一种基于集群磁流变研磨效应的圆柱面高效研磨装置，其在权力要求中提出集群磁流变研磨区域的磁场通过永磁体来提供，但采用永磁体，其结构虽较为简单且可以在不通电的情况下产生磁场，但是永磁铁的集群方式具有磁场强度较小且容易衰减、磁场强度不可调节、盘面上的磁场强度不均匀等缺点。

公开号为CN1470360A公开了一种确定性磁射流精整加工方法及装置，提出利用磁流变液来抛光光学零件，其电磁铁为在非铁磁性材料四周绕有一匝或一匝以上铜线圈，这种电磁铁结构产生的磁场不够均匀，难以满足大面积光学元件的加工。

实用新型内容

本实用新型实施例所要解决的技术问题在于，提供一种指状电磁铁结构，可形成面域磁场，磁场强度高，磁场强度均匀，满足大面积光学元件的加工。

为了解决上述技术问题，本实用新型实施例提供了一种指状电磁铁结构，包括：左磁极及右磁极，所述左磁极设有第一指状结构，所述右磁极设有第二指状结构，所述第一指状结构与所述第二指状结构可相互夹持；所述第一指状结构与第二指状结构的指长为16～26mm；所述第一指状结构与所述第二指状结构上设有方形下凹槽。

进一步的，所述方形下凹槽间隙为1～2mm。

更为优化的，所述方形下凹槽间隙为1mm。

进一步的，所述第一指状结构垂直于所述左磁极处设置圆弧，所述第二指状结构垂直于所述右磁极处设置圆弧，所述方形下凹槽间隙处设置圆弧。

进一步的，所述方形下凹槽深度为2mm。

本实用新型提供的一种指状电磁铁结构，通过将电磁铁设置成相互夹持的指状结构，可形成好多条形间隙式磁场区域。由于这种指状结构电磁铁包括很多条形间隙式磁场，因此漏磁的间隙面积就被间接的增大了，从而形成了面域磁场，增加了磁场强度，满足磁流变加工对磁场区域的要求，同时优化指状结构的指长，提高了磁场的强度，通过在指状结构上设置方形下凹槽及进行圆弧处理，使得磁场强度在增加的同时更趋于均匀，满足了大面积光学元件的精密加工。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型提供的一种指状结构俯视图；

图2是图1中A-A剖面图。

1-左磁极；2-右磁极；3-第一指状结构；4-第二指状结构；5-方形下凹槽；6-圆弧。

具体实施方式