[实用新型]GaN基等离子激元探测器有效
申请号: | 201420150501.3 | 申请日: | 2014-03-31 |
公开(公告)号: | CN203760501U | 公开(公告)日: | 2014-08-06 |
发明(设计)人: | 王俊龙;梁士雄;邢东;张立森;杨大宝;蔚翠;冯志红 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十三研究所 |
主分类号: | H01L31/108 | 分类号: | H01L31/108;H01L31/0352 |
代理公司: | 石家庄国为知识产权事务所 13120 | 代理人: | 米文智 |
地址: | 050051 *** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | gan 等离子 探测器 | ||
技术领域
本实用新型涉及半导体器件技术领域。
背景技术
太赫兹(THz)波是指频率在0.3-3THz范围内的电磁波,其中 1THz=1000GHz。THz波在电磁波频谱中占有很特殊的位置,THz技术是国际科技界公认的一个非常重要的交叉前沿领域。
要实现对太赫兹波的利用,需要有相应的太赫兹波检测手段。目前可以实现太赫兹探测的技术主要有:1、基于等离子激元的太赫兹探测器;2、基于肖特基二极管的探测器;3、基于热电辐射计的太赫兹探测器;4、基于多量子阱的太赫兹探测器。其中基于肖特基二极管的探测技术,一般需要本振链路,接收系统比较复杂。基于热电辐射计和多量子阱技术的太赫兹探测器,需要低温冷却装置。基于等离子激元的太赫兹探测器,可以将待测太赫兹波的能量直接转换为直流信号,并且响应速度快,且室温工作,是目前非常有前途的一种太赫兹探测技术。主要基于氮化镓(GaN)材料和砷化镓(GaAs)材料,由于前者二维电子气浓度更高,主要研究的还是基于GaN的等离子激元探测器。目前等离子激元探测器主要有单栅长结构和周期光栅型栅结构。基于周期光栅型栅结构的探测器,由于周期光栅型栅可以提高太赫兹波与探测器的耦合效率,并且其对二维电子气的调制能力更强,因此周期光栅型栅的等离子激元探测器研究的越来越多,但是周期光栅型栅由于栅部分全是金属,周期光栅型栅金属减少了太赫兹波的实际照射面积,也就减少了太赫兹波与二维电子气的耦合效率。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是提供一种GaN基等离子激元探测器,该探测器采用周期型栅结构,周期型栅采用石墨烯,而不是传统的金属, 与金属栅相比,增加了太赫兹波的透过率,即增加了太赫兹波与二维电子气的耦合效率。
为解决上述技术问题,本实用新型所采取的技术方案是:自下至上包括衬底、AlN缓冲层、GaN层和AlGaN层,AlGaN层面积小于GaN层面积,在AlGaN层上方左侧为源端欧姆接触金属层,AlGaN层上方右侧为漏端欧姆接触金属层,源端欧姆接触金属层和漏端欧姆接触金属层均与AlGaN层和GaN层相接触,源端欧姆接触金属层和漏端欧姆接触金属层在AlGaN层和GaN层上的厚度相等且大于AlGaN层的厚度;AlGaN层上方中间为石墨烯层,石墨烯层包括第一石墨烯层、第二石墨烯层和石墨烯周期型栅肖特基接触层,第一石墨烯层与第二石墨烯层相连且呈T形分布,第二石墨烯层与石墨烯周期型栅肖特基接触层相连,石墨烯周期型栅肖特基接触层由平行且均匀分布的10-100个条形石墨烯构成,石墨烯层与AlGaN层和GaN层相接触;第一石墨烯层上设有欧姆接触电极。
优选的,衬底为蓝宝石、Si、SiC或者GaN。
优选的,源端欧姆接触金属层自下至上依次为Ti、Al、Ni、Au。
优选的,漏端欧姆接触金属层自下至上依次为Ti、Al、Ni、Au。
优选的,欧姆接触电极采用金属材料制成,金属材料自下至上依次为Ti、Au。
采用上述技术方案所产生的有益效果在于:
(1)本实用新型离子激元探测器采用周期型栅结构,周期型栅采用石墨烯,而不是传统的金属,与金属栅相比,减弱了金属对太赫兹波的衰减,增加了太赫兹波的透过率,即增加了太赫兹波与二维电子气的耦合效率;
(2)本实用新型离子激元探测器,可以实现对太赫兹波的直接、快速和灵敏检测,可应用于太赫兹成像,通信等领域,且太赫兹探测市场广阔,具有非常大的应用前景;
(3)本实用新型离子激元探测器成本低廉,制作工艺简单。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明;
图1是本实用新型的俯视图;
图2是图1的A-A断面图;
图中,1、源端欧姆接触金属层;2、AlGaN层;3、第一石墨烯层;4、欧姆接触电极;5、第二石墨烯层;6、漏端欧姆接触金属层;7、石墨烯周期型栅肖特基接触层;8、GaN层;9、AlN缓冲层;10、衬底。
具体实施方式
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的