[实用新型]一种去除高分子薄膜表面粉尘的设备

权利要求书

1.一种去除高分子薄膜表面粉尘的设备，包括第一清洗装置，其特征在于：所述第一清洗装置包括清洗池、至少一个擦拭辊、至少一个支撑辊和若干导向辊，在清洗池内盛放有清洗液，在清洗液上方和内部设置有若干牵引薄膜的导向辊，在清洗池内设置有伸出清洗液液面的支撑辊，在支撑辊的上方设置有擦拭辊，所述薄膜通过支撑辊与擦拭辊之间的间隙。

2.根据权利要求1所述的一种去除高分子薄膜表面粉尘的设备，其特征在于：还包括第二处理装置，所述第二处理装置位于第一清洗装置后端，所述第二处理装置包括处理池和若干导向辊，在处理池内盛放有至少一种亲水剂，在处理池上方和内部设置有若干牵引第一清洗装置输送来薄膜的导向辊。

3.根据权利要求2所述的一种去除高分子薄膜表面粉尘的设备，其特征在于：所述第一清洗装置和第二处理装置位于薄膜涂布机与薄膜干燥机之间。

4.根据权利要求3所述的一种去除高分子薄膜表面粉尘的设备，其特征在于：在每个擦拭辊旁设置有若干向支撑辊与擦拭辊之间间隙喷射清洗液的喷嘴。

5.根据权利要求4所述的一种去除高分子薄膜表面粉尘的设备，其特征在于：所述第一清洗装置最末端的导向辊位于清洗液的液面上方，在该导向辊上设置有向薄膜正反两面喷射清洗液的喷嘴。

6.根据权利要求5所述的一种去除高分子薄膜表面粉尘的设备，其特征在于：所述擦拭辊外表面包有弹性的擦拭材料，所述擦拭辊外表面宽度大于薄膜的幅宽。

7.根据权利要求6所述的一种去除高分子薄膜表面粉尘的设备，其特征在于：所述擦拭辊的表面线速度为薄膜牵引速度的5-20倍。

8.根据权利要求7所述的一种去除高分子薄膜表面粉尘的设备，其特征在于：在处理池内部通过分离隔板将处理池分成前后两个处理池。

9.根据权利要求8所述的一种去除高分子薄膜表面粉尘的设备，其特征在于：在处理池上设置有入口和出口，所述亲水剂流动方向与薄膜牵引方向相反。