[实用新型]基于双可控硅控制的色谱柱快速电控加热电路

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种应用于在线气相色谱仪中，精确控制气相色谱仪中色谱柱的程序升温过程，保证了色谱分析中的稳定性和准确性的基于双可控硅控制的色谱柱快速电控加热电路。主要应用在医药、环境、材料等领域的挥发性、半挥发性物质的定性定量检测等方面。

背景技术

在气相色谱仪的研制和开发中，温控系统的控制精度直接影响色谱峰的分布和形状，色谱柱的温度要按照组分沸点设置的程序连续地随时间线性或非线性逐渐升高，柱温与组分的沸点相互对应，以使低沸点组分和高沸点组分在色谱柱中都有适宜的保留、色谱峰分布均匀且峰形对称，所以气相色谱的温控系统很大程度上影响了色谱分析的准确度。由于加热体部分具有大惯性、纯滞后、时变形等特点，所以市场上现有的用于气相色谱的温控系统大都具有精度不高，超调量大，受外界不同温度干扰后影响大等问题。由于加热体和色谱柱等贵重元器件相连，所以如果温控系统失控，可能会造成很大的损失。

发明内容

鉴于现有技术存在的不足，本实用新型提供了一种基于双可控硅控制的色谱柱快速电控加热电路，

该电路采用两个可控硅及外围电路对加热体进行控制，该电路具有零点保护功能，保证了在使用中的安全性。

本实用新型为实现上述目的，所采用的技术方案是：一种基于双可控硅控制的色谱柱快速电控加热电路，其特征在于：包括控制接口I、制接口II、保护电路I、保护电路II、阻容吸收电路及可控硅I和可控硅II组成的双可控硅控制调节电路，所述控制接口I依次通过可控硅I、可控硅II与制接口II连接，控制接口I接收的控制信号通过双可控硅控制调节电路向控制接口II输出控制信号，保护电路I、保护电路II分别与可控硅I和可控硅II连接，以保护可控硅I和可控硅II电路的正常稳定运行，阻容吸收电路与可控硅II连接，以保证可控硅II中的晶闸管稳定工作。

本实用新型的有益效果是：性能方面更加稳定可靠，通过两个可控硅电路组合到一起来控制加热体的程序升温，不仅具有零点保护功能，而且提高了温控系统的稳定性。操作方面，该系统将所有元器件集成在一块小电路板上，体积小，安装方便，便于维护。该系统比现有的温控加热系统体积小很多，在人员安装和维护方面更加方便快捷。成本方面，该系统在保证系统稳定性的前提下，成本低廉，有效的节约了成本。总之，采用两个可控硅及外围电路对加热体进行控制，稳定性和控制精度高；受外界不同温度干扰后影响小，保证了在使用中的安全性。

附图说明

图1为本实用新型的电路连接框图；

图2为本实用新型的具体应用电路连接框图。

具体实施方式

如图1、2所示，基于双可控硅控制的色谱柱快速电控加热电路，包括控制接口I、制接口II、保护电路I、保护电路II、阻容吸收电路及可控硅I和可控硅II组成的双可控硅控制调节电路，控制接口I依次通过可控硅I、可控硅II与制接口II连接，保护电路I、保护电路II分别与可控硅I和可控硅II连接，阻容吸收电路与可控硅II连接。

工作原理：控制接口I连接外部CPU主板控制信号，控制接口II连接加热箱中的加热体。其中外部CPU主板发来的控制信号通过控制接口I进入到可控硅I，可控硅I是一个光耦可控硅，具有零点保护功能；保护电路I的作用是保护可控硅I正常稳定运行，可控硅I起到开关作用，调节后端开启和关闭。可控硅I信号控制可控硅II，最终可控硅II通过控制端口II来最终控制后端加热箱，其中可控硅II的工作电路由可控硅II、阻容吸收电路、保护电路II来组成。其中保护电路II保证了控制电路的稳定性和工作中的安全性，保证了在外界温度变化过程中电路能够稳定运行，而且提高了控制精度，保证了在调节加热体过程中超调量小；阻容吸收电路来保证可控硅中的晶闸管；散热器用来帮助可控硅II的散热，保证工作稳定性。

在实际应用中，将控制接口I连接到外部的CPU主板，控制接口II连接到需要控制的加热体部分。外部的CPU主板发出控制信号通过基于双可控硅控制的色谱柱快速电控加热电路来调节控制加热体，加热体表面的温度传感器将加热体的温度信号通过反馈信号实时传输到外部的CPU主板，CPU主板通过对温度信号进行处理运算，来进一步计算和调节控制信号，形成一个完整的闭合回路。