[实用新型]一种用于晶体硅太阳能电池制造的扩散炉反应仓有效

专利信息
申请号: 201420075121.8 申请日: 2014-02-21
公开(公告)号: CN203834051U 公开(公告)日: 2014-09-17
发明(设计)人: 郑淑刚;李朝;张兴云 申请(专利权)人: 晶澳太阳能有限公司
主分类号: C30B31/10 分类号: C30B31/10;H01L31/18
代理公司: 广州知友专利商标代理有限公司 44104 代理人: 李海波
地址: 055550 河北*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 晶体 太阳能电池 制造 扩散 反应
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种用于晶体硅太阳能电池制造的扩散炉反应仓。

背景技术

扩散炉反应仓是晶体硅太阳能电池制造过程中硅片进行扩散工序所用到的重要设备,其主要作用是作为硅片扩散工序的反应仓。

如图1所示,现有的扩散炉反应仓包括圆柱形仓体1,该仓体1的圆形端面直径为310mm,仓体1其中一个圆形端面安装有用于向仓体1内输入氮气和氧气的进气管2、用于向仓体1内喷入磷源的上喷磷管31、用于监控仓体1内温度的热偶管4和用于排出仓体1内废气的排气管5,进气管2位于圆形端面的中心位置,上喷磷管31位于圆形端面的顶部位置,热偶管4和排气管5均位于圆形端面的底端位置。硅片进行扩散工序前,首先经进气管2向仓体1内输入氮气和氧气,以排出仓体1内的空气,防止硅片氧化;在进行扩散工序的过程中,经上喷磷管31喷入磷源进行反应,并由热偶管4对仓体1内的温度变化进行监控;在进行扩散工序完成后,仓体1内的废气经排气管5排出。

上述现有的扩散炉反应仓存在以下不足:第一,由于氮气和氧气从仓体的中心位置输入,磷源从仓体的顶部位置输入,造成作为工艺气体的氮气、氧气和磷源在扩散工序过程中混合不足,影响了产品的扩散均匀性;第二,用于工艺反应的仓体直径较小,造成氮气、氧气和磷源在扩散工序过程中混合不够均匀,产品的扩散均匀性进一步受到了影响。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是:提供一种用于晶体硅太阳能电池制造的扩散炉反应仓,以克服现有技术中氮气、氧气和磷源在扩散工序过程中混合不够均匀的问题。

解决上述技术问题,本实用新型所采用的技术方案如下:

一种用于晶体硅太阳能电池制造的扩散炉反应仓,包括圆柱形仓体,该仓体的其中一个圆形端面安装有用于向仓体内输入氮气和氧气的进气管、用于向仓体内喷入磷源的喷磷管、用于监控仓体内温度的热偶管和用于排出仓体内废气的排气管,所述进气管位于圆形端面的中心位置,所述排气管位于圆形端面的底端位置,其特征在于:所述的喷磷管包括上喷磷管和下喷磷管;所述上喷磷管位于圆形端面的顶端位置,下喷磷管位于圆形端面的底端位置,所述热偶管位于圆形端面的左端或右端位置。

作为本实用新型的一种改进,所述下喷磷管与排气管沿通过所述上喷磷管的圆形端面的直径对称分布设置。

作为本实用新型的一种改进,所述下喷磷管与排气管位于所述圆形端面上的圆心角为20°。

作为本实用新型的优选实施方式,所述仓体的圆形端面直径为330mm。

与现有技术相比,本实用新型具有以下有益效果:

第一,本实用新型设有上、下喷磷管,使仓体能够采用中部进气、上下同时喷磷的工艺方法,可以进行上下同时喷磷的工艺流程,使其能够适用于上下同时喷磷的工艺方法,仓体工作时其内部的作为工艺气体的氮气、氧气和磷源混合均匀,进而使扩散反应更为均匀,扩散效果得到提升;

第二,本实用新型的仓体圆形端面直径为330mm,使得工艺气体拥有更大的空间,使之混合更加均匀,进一步提高了扩散均匀程度;

经试验,本实用新型能够使作为工艺气体的氮气、氧气和磷源充分混合均匀,令扩散更加均匀,扩散方阻可以提升0.05%以上

附图说明

下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步的详细说明:

图1为现有的扩散炉反应仓的圆形端面结构示意图;

图2为本实用新型的扩散炉反应仓的圆形端面结构示意图;

图3为图2的A向结构示意图。

具体实施方式

如图2和图3所示,本实用新型的用于晶体硅太阳能电池制造的扩散炉反应仓,包括圆形端面直径为330mm的圆柱形仓体1,该仓体1的其中一个圆形端面安装有用于向仓体1内输入氮气和氧气的进气管2、用于向仓体1内喷入磷源的上喷磷管31和下喷磷管32、用于监控仓体1内温度的热偶管4以及用于排出仓体1内废气的排气管5,进气管2位于圆形端面的中心位置,上喷磷管31位于圆形端面的顶端位置,热偶管4位于圆形端面的左端或右端位置,下喷磷管32和排气管5均位于圆形端面的底端位置,并且下喷磷管32与排气管5沿通过上喷磷管31的圆形端面的直径对称分布设置,它们位于圆形端面上的圆心角α为20°。

本实用新型不局限与上述具体实施方式,根据上述内容,按照本领域的普通技术知识和惯用手段,在不脱离本实用新型上述基本技术思想前提下,本实用新型还可以做出其它多种形式的等效修改、替换或变更,均落在本实用新型的保护范围之中。

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