[实用新型]一种用于研磨垫的清洁装置有效
| 申请号： | 201420042220.6 | 申请日： | 2014-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN203696758U | 公开（公告）日： | 2014-07-09 |
| 发明（设计）人： | 唐强;马智勇 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | B24B53/017 | 分类号： | B24B53/017 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 李仪萍 |
| 地址： | 100176 北京市大兴*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 研磨 清洁 装置 | ||
1.一种用于研磨垫的清洁装置，其特征在于，所述清洁装置至少包括：
金刚石清洁盘；
所述金刚石清洁盘表面具有用于清除所述研磨垫表面及其沟槽中残留物的若干金刚石颗粒；
所述若干金刚石颗粒按其在所述金刚石清洁盘上所占面积的不同分为不同种类的金刚石颗粒；
所述每种金刚石颗粒均以其排列所构成的曲线或直线轨迹彼此交替地分布在所述金刚石清洁盘的表面。
2.根据权利要求1所述的用于研磨垫的清洁装置，其特征在于：所述若干金刚石颗粒的形状包括圆锥或棱锥。
3.根据权利要求2所述的用于研磨垫的清洁装置，其特征在于：所述金刚石颗粒在所述金刚石清洁盘上的投影为圆形，按照其直径分为两类金刚石颗粒，其中，第一类金刚石颗粒直径大于研磨垫沟槽的宽度；第二类金刚石颗粒直径小于研磨垫沟槽的宽度。
4.根据权利要求3所述的用于研磨垫的清洁装置，其特征在于：所述圆形投影的直径为5毫米至15毫米。
5.根据权利要求3所述的用于研磨垫的清洁装置，其特征在于：所述第一类金刚石颗粒直径是第二类金刚石颗粒直径的1.5至2.5倍。
6.根据权利要求2所述的用于研磨垫的清洁装置，其特征在于：所述金刚石颗粒在所述金刚石清洁盘上的投影为多边形，按照其任意两顶点间的最大距离分为两类金刚石颗粒，其中，第一类金刚石颗粒直径大于研磨垫沟槽的宽度；第二类金刚石颗粒直径小于研磨垫沟槽的宽度。
7.根据权利要求6所述的用于研磨垫的清洁装置，其特征在于：所述多边形的任意两顶点间的最大距离为5毫米至15毫米。
8.根据权利要求6所述的用于研磨垫的清洁装置，其特征在于：所述第一类金刚石颗粒任意两顶点间的最大距离是第二类金刚石颗粒任意两顶点间的最大距离的1.5至2.5倍。
9.根据权利要求1所述的用于研磨垫的清洁装置，其特征在于：所述每种金刚石颗粒均以其排列所构成同心圆圆周的轨迹彼此交替地分布在所述金刚石清洁盘的表面。
10.根据权利要求9所述的用于研磨垫的清洁装置，其特征在于：所述每个同心圆圆周上相邻的金刚石颗粒彼此之间的间距相等。
11.根据权利要求1所述的用于研磨垫的清洁装置，其特征在于：所述每种金刚石颗粒均以构成行或列的方式交替排列。
12.根据权利要求11所述的用于研磨垫的清洁装置，其特征在于：所述每行或每列上相邻的金刚石颗粒彼此之间的间距相等。
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