[实用新型]一种实验室用二氧化硅粉研磨装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种实验室用研磨装置，特别涉及一种实验室用二氧化硅粉研磨装置。

背景技术

粉体研磨加工方式：球磨机、振动磨、气流磨、搅拌磨、雷蒙磨等。

粉体的加工方式通常根据物料性质及使用领域选择、确定加工生产方式。电子、电工级用二氧化硅微粉多采用球磨机、振动磨等无铁研磨加工方式生产；高纯二氧化硅微粉多采用气流磨研磨加工方式生产；搅拌磨、雷蒙磨多生产超细二氧化硅微粉。

传统的电子、电工级硅微粉生产企业在产品研发上多使用生产线设备，研发过程材料用量大、能耗多，并且用工多、与正常生产形成冲突。随着电子、电工产品的发展，对二氧化硅微粉也提出了越来越高的要求，二氧化硅微粉研发课题也越来越多。随着研发任务的繁重，二氧化硅微粉研发出现了实验室设备，如：实验室行星球磨机、实验室卧式罐磨机等。但是这些实验设备研磨出的二氧化硅粉不具有代表性，研磨出的产品在生产线上不具有重复性。

发明内容

本实用新型所要解决的技术问题是针对现有技术的不足，提供一种设计合理，使用方便的实验室用二氧化硅粉研磨装置。

本实用新型所要解决的技术问题是通过以下的技术方案来实现的，本实用新型是一种实验室用二氧化硅粉研磨装置，其特点是：包括机架，在机架上设有至少一组研磨机构，每组研磨机构包括两个相对运动的驱动辊，两个驱动辊之间放置有至少一个研磨罐，所述的研磨罐包括罐体和罐盖，所述罐体的底面为平面，罐体的上部设有进料口，进料口与罐体的上沿口之间设有与罐体连为一体的安装环，安装环上对称设有两个向上设置的安装螺栓，所述的罐盖盖设在进料口处，安装螺栓向上穿出罐盖，在罐盖上方的安装螺栓上设有锁紧螺母，罐盖的内表面设置为平面、并与安装环的内表面在同一水平面上。

本实用新型所要解决的技术问题还可以通过以下的技术方案来进一步实现，以上所述的实验室用二氧化硅粉研磨装置中，所述的至少一个驱动辊上设有研磨罐限位挡圈。

本实用新型所要解决的技术问题还可以通过以下的技术方案来进一步实现，以上所述的实验室用二氧化硅粉研磨装置中，所述的研磨罐设有两个，并排设在两个驱动辊之间。

本实用新型所要解决的技术问题还可以通过以下的技术方案来进一步实现，以上所述的实验室用二氧化硅粉研磨装置中，所述的研磨机构设有两组，上下设置在机架上。

本实用新型所要解决的技术问题还可以通过以下的技术方案来进一步实现，以上所述的实验室用二氧化硅粉研磨装置中，在机架的底部装有移动轮。

本实用新型所要解决的技术问题还可以通过以下的技术方案来进一步实现，以上所述的实验室用二氧化硅粉研磨装置中，在罐盖与安装环相接处设有密封圈。

本实用新型所要解决的技术问题还可以通过以下的技术方案来进一步实现，以上所述的实验室用二氧化硅粉研磨装置中，所述的驱动辊的表面上包裹有聚氨酯层。

与现有技术相比，本实用新型通过两个驱动辊驱动研磨罐转动进行研磨，而研磨罐的罐体底部和罐盖内表面均为平面，因此与生产线的圆磨机的端面结构一致，这样实验室得到的数据与生产线具有同相性，可以同比例放大到生产线上，缩短了生产线的摸索时间，减少了资源浪费，提高了生产效率。

附图说明

图1是本实用新型的一种结构示意图。

图2是图1的俯视结构示意图。

图3是研磨罐的一种结构示意图。

具体实施方式

以下参照附图，进一步描述本实用新型的具体技术方案，以便于本领域的技术人员进一步地理解本发明，而不构成对其权利的限制。

参照附图1、2和3，一种实验室用二氧化硅粉研磨装置，包括机架1，在机架1的底部装有移动轮，方便移动。在机架1上设有至少一组研磨机构，每组研磨机构包括两个相对运动的驱动辊3，两个驱动辊3之间放置有至少一个研磨罐2。所述的驱动辊3的表面上包裹有聚氨酯层，可以使驱动辊3更耐磨，增大了摩擦力，防止研磨罐2打滑或空转。其中一个驱动辊3的两端分别与机架1上的丝杠相接，丝杠的一端设有调节手轮，通过转动丝杠可以调节这个驱动辊3与另一个驱动辊3的距离。所述的研磨机构设有两组，上下设置在机架1上。通过一个电机驱动上下两组驱动辊3同时运动。当研磨罐2设有两个时，并排设在两个驱动辊3之间。所述的至少一个驱动辊上设有研磨罐限位挡圈4，可以防止研磨罐2相互碰撞或发生跑偏的现象。