[实用新型]抛光体有效

专利信息
申请号: 201420040115.9 申请日: 2014-01-22
公开(公告)号: CN203726354U 公开(公告)日: 2014-07-23
发明(设计)人: 吕鸿图;施武助 申请(专利权)人: 昆山纳诺新材料科技有限公司
主分类号: B24D5/00 分类号: B24D5/00;B24D5/16
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 王一斌;王琦
地址: 215316 江苏省昆*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 抛光
【权利要求书】:

1.一种抛光体,其特征在于,包括:

研磨本体,为多孔隙状结构,所述研磨本体的中心具有穿孔;以及

背绒层,设置在所述研磨本体的表面,并环绕于所述穿孔的周围。

2.如权利要求1所述的抛光体,其特征在于,所述背绒层的外缘朝所述研磨本体的外缘延伸形成延伸部。

3.如权利要求2所述的抛光体,其特征在于,所述背绒层具有多个开口。

4.如权利要求3所述的抛光体,其特征在于,所述多个开口以环状的阵列排列。

5.如权利要求3所述的抛光体,其特征在于,所述多个开口的形状为扇形状结构。

6.如权利要求1所述的抛光体,其特征在于,所述研磨本体还包括第一防护层,其设置在所述穿孔的内壁面。

7.如权利要求1所述的抛光体,其特征在于,所述研磨本体还包括第二防护层,其设置在所述研磨本体的外缘。

8.如权利要求1所述的抛光体,其特征在于,进一步包括黏胶层,其设置在所述研磨本体与所述背绒层之间。

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