[实用新型]一种用于卷绕式溅射三层介质膜的镀膜装置

说明书

技术领域

本新型涉及真空镀膜设备，特指一种应用在卷绕式溅射三层介质膜的镀膜装置。

背景技术

在对阴极溅射成膜装置中，卷绕式真空镀膜设备以其可以连续生产而明显的提高了成膜的效率，然而，现有的卷绕式真空镀膜设备中对于各个用来溅射成膜阴极小室的安装数量有限，各个阴极小室的溅射时间和溅射气氛难以准确控制，成膜的稳定性差，大都只能生产一层或两层介质膜，而无法连续溅射三层介质膜，因为三层介质膜中间的介质膜的溅射成膜时间较长，成膜气氛与上下两层介质膜的气氛均不同，现有的卷绕式真空镀膜设备同步转动，单一的阴极小室的溅射成膜时间明显不够，各个阴极小室的气氛也容易相互干涉；

另外，现有的卷绕式真空镀膜设备往往需要和清洁装置、加热装置、放卷和收卷机构配套使用形成生产线，这样会造成设备多、占用产地大的问题；

有鉴于此，如何设计一种仅用单一的真空镀膜设备和镀膜方法就能连续溅射三层介质膜成为有待解决的技术问题。

发明内容

本新型的目的就是针对现有技术的不足之处而提供的一种应用在卷绕式溅射三层介质膜的镀膜装置。

为达到上述目的，本新型的技术方案是： 

一种用于卷绕式溅射三层介质膜的镀膜装置，包括有：冷辊、驱动冷辊的主电机、包覆住冷辊的真空腔、放卷机构、收卷机构和五个阴极小室，其中，放卷机构、收卷机构和五个阴极小室均内置于真空腔内，放卷机构通过原料薄膜绕过冷辊的圆周表面传输到收卷机构实现三者的同步联动，所述真空腔包覆住冷辊的部分为圆柱形腔体，五个阴极小室间隔排列在所述圆柱形腔体的内壁上且向外伸凸形成腔室凸包，所述阴极小室包括有阴极靶体、冷却水管、补气机构、抽真空机构、气氛隔离板，阴极靶体对应着冷辊上的原料薄膜设置在阴极小室内，冷却水管分布在阴极小室的侧壁，补气机构由外部的补气单元连通到对应的阴极小室内，抽真空机构由外部的抽真空机连通到阴极小室内，气氛隔离板间隔设置在两相邻的阴极小室之间；所述五个阴极小室中的中间三个阴极小室结构相同均为双靶阴极小室，双靶阴极小室中的阴极靶体为两个阴极溅射靶，五个阴极小室中的两侧的两个阴极小室结构相同均为单靶阴极小室，单靶阴极小室的阴极靶体为一个阴极溅射靶。

所述真空腔内还设有离子源预处理机构，离子源预处理机构为两个，分别设置在放卷机构与冷辊之间以及冷辊和收卷机构之间，离子源预处理机构包括有用来清洗的真空室，该真空室为凹型容腔，真空室上部的开口对应待清洗的原料薄膜；真空室的底部安装有用来抽真空的真空机构，在真空室内固定设有绝缘支撑件，在绝缘支撑件上设有用来提供清洁气体的布气孔，在绝缘支撑件上还分别间隔设有两个电极，两个电极分别通过各自的电源线与外部的高压中频电源电连接。

所述真空腔内还设有用来对原料薄膜进行加热的加热装置，加热装置为两个，分别为设置在放卷机构的出口端前加热装置以及设置在收卷机构的进口端的后加热装置。

本发明还涉及一种用于卷绕式溅射三层介质膜的镀膜方法，包括有以下步骤，

步骤一，对真空腔进行抽真空，放卷机构、冷辊、收卷机构三者同步转动使原料薄膜从放卷机构卷绕过冷辊的圆周表面传输到收卷机构；

步骤二，原料薄膜在传输过程中，先通过前加热装置对原料薄膜进行预加热，在经过离子源预处理机构对原料薄膜进行预处理，以清除基底表面异物，改善成膜质量，增加沉积层在基底上的附着力；

步骤三，经过前一个单靶阴极小室时在原料薄膜上溅射第一层介质膜，前一个单靶阴极小室内通过抽真空、补气后形成用来溅射第一层介质膜的第一气氛；

步骤四，经过三个双靶阴极小室时在原料薄膜上连续溅射第二层介质膜，每个双靶阴极小室内均通过抽真空、补气后形成用来溅射第二层介质膜的第二气氛；

步骤五，经过后一个单靶阴极小室时在原料薄膜上溅射第三层介质膜，后一个单靶阴极小室内通过抽真空、补气后形成用来溅射第三层介质膜的第三气氛；

步骤六，经过后一个离子源预处理机构对镀膜后的原料薄膜进行预处理，在经过后加热装置对镀膜后的原料薄膜进行加热后通过收卷机构收卷。