[实用新型]一种服装面料及一种服装有效
申请号: | 201420030726.5 | 申请日: | 2014-01-17 |
公开(公告)号: | CN204036966U | 公开(公告)日: | 2014-12-24 |
发明(设计)人: | 赵尚振;吕慧;李景川 | 申请(专利权)人: | 安踏(中国)有限公司 |
主分类号: | B32B9/04 | 分类号: | B32B9/04;B32B33/00;B32B5/24;D03D15/00;D06M11/44;D06M11/46 |
代理公司: | 北京市清华源律师事务所 11441 | 代理人: | 沈泳;李赞坚 |
地址: | 362212 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 服装面料 服装 | ||
1.一种服装面料,其特征在于,包括基底层和在所述基底层至少一侧设置有含紫外感应材料的功能层;所述基底层部分或者全部由紫外变色纱线织造而成;所述功能层具有热反射、热传递、导湿气、透气、增强基底层强度或韧性中的一种或几种;
所述紫外变色纱线以及紫外感应材料根据接收的紫外线光强而显示为不同的颜色。
2.根据权利要求1所述的服装面料,其特征在于,所述紫外变色纱线是纱线经过紫外感应材料处理,和/或,所述紫外变色纱线经过抗紫外线整理剂处理。
3.根据权利要求1所述的服装面料,其特征在于,包括抗紫外线层,所述抗紫外线层设置在所述基底层的一侧,或者设置在所述基底层与所述功能层之间。
4.根据权利要求3所述的服装面料,其特征在于,在所述基底层至少一侧设置有含紫外感应材料的功能层,所述抗紫外线层设置在所述基底层的一侧,或者设置在所述基底层与所述功能层之间。
5.根据权利要求3或4任一项所述的服装面料,其特征在于,所述抗紫外线层通过印花工艺或者涂层工艺设置在所述底基层上。
6.根据权利要求3所述的服装面料,其特征在于,所述抗紫外线层设置在所述基底层的一侧,所述功能层通过印花工艺或者涂层工艺设置在所述基底层的另一侧;或者,
所述抗紫外线层设置在所述基底层与所述功能层之间,所述功能层通过印花工艺或者涂层工艺设置在所述抗紫外线层上。
7.根据权利要求6所述的服装面料,其特征在于,所述印花工艺或者涂层工艺的浆料粘度范围是大于等于500厘泊,且小于等于3000厘泊。
8.根据权利要求6所述的服装面料,其特征在于,所述印花工艺或者涂层工艺的浆料粘度为1500厘泊。
9.根据权利要求6所述的服装面料,其特征在于,所述印花工艺为批印或者为裁片印;采用筛网印花、圆网印花、滚筒印花、平网印花、泡沫印花、转移印花和电脑喷墨印花中的一种或者多种方式;或者,
所述涂层工艺采用刮刀涂层、圆网涂层、浮点涂层、泡沫涂层和转移涂层中的一种或者多种方式。
10.一种服装,其特征在于,该服装全部或部分使用上述权利要求1-9任一项所述的服装面料。
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