[实用新型]双体双面真空镀膜设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜设备，具体是一种双体双面真空镀膜设备。

背景技术

镀膜机镀膜室和真空系统及电控系统设计直接关系到镀膜机的生产效率、能耗和成本。目前的真空离子镀膜机由一个单筒体镀膜室、一套真空系统和一套电控系统组成，采用单筒体镀膜室，受真空镀膜离子发射距离的限制，由一部分镀膜室空间不能得到有效利用，同时增大了镀膜室的抽气容积，导致增大了抽气时间和真空系统的能耗和设备磨损，一套真空系统，在镀膜机装卸工件时，真空系统中的扩散泵、维持泵不能停机，导致利用率低下和不必要的能耗；电源和控制系统停机时处于闲置状态，电控系统不能充分利用，致使降低生产效率，增大能耗，设备价格高。

实用新型内容

本实用新型旨在解决背景技术所述问题，而提供一种双体双面真空镀膜设备，该设备能最大限度地降低对能源的消耗，提高设备的利用率，提高生产的效率。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：

一种双体双面真空镀膜设备，包括镀膜室、真空系统、控制真空系统的电控系统，镀膜室为两个，镀膜室均包括外筒体与置于外筒体内部的内筒体，内筒体与外筒体之间的密闭空间为镀膜区，内筒体、外筒体相对的侧面上均设有离子发射装置。

作为对本技术方案的进一步改进，真空系统包括低真空系统、高真空系统，任一镀膜室分别通过低真空转换阀门、高真空转换阀门与低真空系统、高真空系统相连通。

作为对本技术方案的进一步改进，电控系统包括，电源、转换开关、控制系统，转换开关控制电源，控制系统控制低真空转换阀门、高真空转换阀门顺次为不同的镀膜室抽真空。

作为对本技术方案的进一步改进，内筒体与外筒体为组合体，内筒体可拆卸。

本实用新型采用的技术方案的核心点在于：一套真空镀膜设备，由两个独立的镀膜室，A室和B室，每个镀膜室分为内外筒体，内外筒体上均设有离子发射装置，实现双面镀膜，同时，两个镀膜室共用一套电源和控制系统、低真空系统和高真空系统，两个镀膜室交替镀膜工作，共用电源采用转换开关供电；低真空系统和高真空系统分别用转换阀门控制的新型双体双面真空镀膜设备。采用本实用新型双体双面真空镀膜设备能降低制造成本40-50%，提高用电效率30-40%，提高生产效率50%以上。

本实用新型所述双体双面真空镀膜设备的关键组成部分为：组合型内外筒体镀膜室A，组合型内外筒体镀膜室B，共用低真空系统，共用高真空系统，共用电控系统，电控转换开关，低真空转换阀门，高真空转换阀门组成。

本技术方案的一种双体双面真空镀膜设备工作过程如下：

将被镀工件装入A镀膜室上盖的挂架上，将上盖盖在A室上，使A室内部形成密闭的镀膜区。

将电控系统转换开关转换到A室，关闭B室高真空系统阀门和低真空系统阀门。开启低真空系统和高真空系统，打开A室低真空系统阀门，对A室进行低真空抽气，当A室达到低真空状态后，关闭A室低真空阀门，打开A室高真空阀门，对A室进行高真空抽气，当A室达到镀膜工艺要求的真空度时，开启蒸发源电源，镀膜室内外筒上的离化源同时对工件进行镀膜作业，实现双面镀膜，当完成镀膜作业后，关闭高真空系统阀门，开启A室放气阀门，吊起A室上盖，卸下镀好的工件，完成镀膜作业，再次安装被镀工件，等待下一次镀膜。

在A室镀膜作业的同时，将工件装在B室上盖的挂架上，之后，将上盖盖在B室上，使B室内部形成密闭的镀膜区，当A室完成镀膜作业后，立即将电控系统转换开关转换到B室，开启B室低真空系统阀门，对B室进行低真空抽气，当B室达到低真空状态后，关闭B室低真空阀门，打开B室高真空阀门，对B室进行高真空抽气，当B室达到镀膜工艺要求的真空度时，开启蒸发源电源，镀膜室内外筒上的离化源同时对工件进行镀膜作业，当完成镀膜工作后，关闭高真空系统阀门，开启B室放气阀门，将转换开关转到A室，A室进行镀膜作业。

采用转换开关控制共用供电电源，用转换阀门控制共用低真空系统和高真空系统，实现两个镀膜室交替镀膜工作。

与现有技术相比，本技术方案的技术效果体现在：

（1）本实用双体双面真空镀膜设备具有两个独立工作的镀膜室，每个镀膜室分为内外筒体，内外筒体上均设有离子发射装置，可对待镀工件同时实现双面镀膜，大大提高生产效率；

（2）同时由于采用内外筒体的结构，能有效减小镀膜室的空闲的容积，减少工作时抽真空时间，降低了真空泵的功耗，还可以延长真空泵和真空阀门的使用寿命；