[实用新型]一种倾斜宽场光切片扫描成像显微系统有效
| 申请号: | 201420021659.0 | 申请日: | 2014-01-14 |
| 公开(公告)号: | CN203705345U | 公开(公告)日: | 2014-07-09 |
| 发明(设计)人: | 于冬梅;匡翠云;毕学卫 | 申请(专利权)人: | 苏州大猫单分子仪器研发有限公司 |
| 主分类号: | G01N21/64 | 分类号: | G01N21/64;G02B21/36 |
| 代理公司: | 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 | 代理人: | 胡思棉 |
| 地址: | 215000 江苏省苏州市苏州工*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 倾斜 宽场光 切片 扫描 成像 显微 系统 | ||
1.一种倾斜宽场光切片扫描成像显微系统,依次包括激光发射装置、二维扫描振镜、准直透镜组、第一显微物镜、样品台、第二显微物镜、场镜、探测器、数据采集卡及成像显示控制装置;其中,所述二维扫描振镜反射所述激光发射装置产生的激光后经所述准直透镜组聚焦再准直后经所述第一显微物镜倾斜入射放置在所述样品台上的样品形成倾斜入射样品的激光扫描光路;所述准直透镜组包括第一透镜和第二透镜,靠近所述第一显微物镜的所述第二透镜与所述第一显微物镜构成4f光学系统;扫描样品后的出射光依次经所述第二显微物镜、所述场镜后在所述探测器上成像形成成像探测光路;所述激光扫描光路的光轴和所述成像探测光路的光轴垂直;所述第二显微物镜安装在压电片底座上,并可沿成像探测光路的光轴轴向发生位移;
所述样品台上的样品被所述激光扫描光路聚焦光斑照亮区域位于所述第二显微物镜的物方焦面上;
所述数据采集卡分别与所述激光发射装置、所述二维扫描振镜、所述压电片底座及所述探测器连接,并分别向与其连接的所述各部件发送控制信号控制所述各部件动作;
所述样品台与一样品台控制装置连接,所述样品台控制装置控制所述样品台进行三维移动;
所述成像显示控制装置分别与所述探测器、所述样品台控制装置、所述数据采集卡连接,并分别向所述探测器、所述样品台控制装置、所述数据采集卡发送设定参数及控制指令;并处理显示样品三维图像信息;
当样品为荧光标记的荧光样品时,在所述第二显微物镜与所述场镜之间设置有滤光片。
2.根据权利要求1所述的扫描成像显微系统,其特征在于所述激光发射装置依次包括激光发生器、单模光纤、及准直透镜;所述激光发生器发出激光经所述单模光纤耦合后经所述准直透镜形成激光光束入射所述二维扫描振镜。
3.根据权利要求1所述的扫描成像显微系统,其特征在于所述二维扫描振镜包括横向扫描头和纵向扫描头,所述数据采集卡分别向所述横向扫描头发送横向控制电压信号,向纵向扫描头发送纵向控制电压信号控制其偏转角度及偏转周期。
4.根据权利要求1所述的扫描成像显微系统,其特征在于所述准直透镜组的第一透镜的像方焦点和第二透镜的物方焦点重合。
5.根据权利要求1所述的扫描成像显微系统,其特征在于所述数据采集卡向所述二维扫描振镜发送的横向控制电压信号周期、纵向控制电压信号周期、向所述压电片底座发出的控制电压信号周期、及控制所述探测器拍摄速率周期相同。
6.根据权利要求1所述的扫描成像显微系统,其特征在于所述激光发射装置包括发射不同波长激光的第一激光发射装置和第二激光发射装置,所述第一激光发射装置依次包括激光发生器、单模光纤、准直透镜及反射镜,所述第二激光发生装置依次包括激光发生器、单模光纤、准直透镜及偏振分束器;所述第一激光发射装置发射的激光光束经准直后由所述反射镜反射至所述偏振分束器,再经所述偏振分束器反射入射所述二维扫描振镜,同时,所述第二激光发射装置发射的激光光束经准直后穿过所述偏振分束器入射所述二维扫描振镜;所述第一激光发射装置和第二激光发射装置所产生的激光于所述二维扫描振镜处合束后再经准直通过所述第一显微物镜入射样品;所述样品为经双色荧光标记的双色荧光样品。
7.根据权利要求1所述的扫描成像显微系统,其特征在于所述激光扫描光路的光轴与所述样品台水平面夹角为45度。
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