[实用新型]超级电容器电极碾压机上的基材厚度监测装置有效

专利信息
申请号: 201420014154.1 申请日: 2014-01-10
公开(公告)号: CN203664370U 公开(公告)日: 2014-06-25
发明(设计)人: 曾福娣;傅冠生;阮殿波;张洪权;陈照平;吴震寰 申请(专利权)人: 宁波南车新能源科技有限公司
主分类号: B21B38/04 分类号: B21B38/04;H01G13/00;G01B21/08
代理公司: 宁波市鄞州甬致专利代理事务所(普通合伙) 33228 代理人: 李迎春
地址: 315112 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 超级 电容器 电极 碾压 基材 厚度 监测 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种超级电容器电极碾压机上的基材厚度监测装置。

背景技术

在制作超级电容器电极时,超级电容器电极需要通过碾压成型,一般需要通过碾压机对基材进行碾压成型,在碾压机上对基材进行碾压成型时,一般无法对待碾压的基材的厚度进行监测,在基材厚度异常或基材表面沾有异物时,无法及时发现来做相应处理,由于碾压辊为精密部件,基材厚度异常或基材表面沾有异物会对碾压辊的精度产生影响,从而降低碾压辊的使用寿命,同时也使得碾压成型后的超级电容器电极的不合格率较高。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是,提供可以对基材的厚度进行监测,以在基材厚度异常或基材表面沾有异物时可以发现,以及时做相应处理,以降低成型后的超级电容器电极的不和合格率,并提高碾压辊的使用寿命的超级电容器电极碾压机上的基材厚度监测装置。

为解决上述技术问题,本实用新型提供的超级电容器电极碾压机上的基材厚度监测装置,它包括一支架,该支架包括均竖直设置的左支架和右支架;一移动辊,该移动辊的两端分别转动连接在一固定轴上,移动辊可相对于固定轴径向移动;一固定辊,该固定辊的两端分别通过轴承座安装在左支架和右支架上,该固定辊位于移动辊的下方,固定辊和移动辊相平行设置,固定辊和移动辊之间设有与标准厚度的基材相配合的间隙;一位移传感器,该位移传感器用于检测移动辊的径向位移,该位移传感器安装在左支架或右支架上,该位移传感器的输出端连接至控制器;气缸,所述的气缸有两个,两个气缸分别安装在左支架和右支架上,两个气缸的活塞杆均竖直向下设置且分别与两个固定轴连接。

采用以上结构后,本实用新型与现有技术相比,具有以下的优点:

基带从固定辊和移动辊之间的间隙中穿过,固定辊和移动辊之间的间隙刚好可以允许标准厚度的基材通过,当基材厚度异常或基材表面沾有异物时,基材或基材表面的异物将会触碰到移动辊或固定辊,这就会使得移动辊向上移动,也就是说当移动辊向上移动时,则表明基材厚度异常或基材表面沾有异物,从而使得位移传感器可以通过检测移动辊的径向位移来判断基材厚度异常或基材表面沾有异物,可以及时发现基材厚度异常或基材表面沾有异物,使得可以及时做相应处理,以使得成型后的超级电容器电极的不合格率较低,而且可以避免基材厚度异常或基材表面沾有异物而对碾压辊的精度产生影响,从而提高了碾压辊的使用寿命。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

其中,1、左支架;2、右支架;3、移动辊;4、固定轴;5、固定辊;6、位移传感器;7、气缸;8、轴承座。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细地说明。

由图1所示,本实用新型超级电容器电极碾压机上的基材厚度监测装置,它包括一支架、一移动辊3、一固定辊5、一位移传感器6和两个气缸7,该基材厚度监测装置设置于电极碾压机的防卷单元,位于碾压辊组的前端。

支架包括均竖直设置的左支架1和右支架2。

移动辊3的两端分别转动连接在一固定轴4上,移动辊3可相对于固定轴4径向移动,也就是说移动辊3两端的安装孔的孔径大于固定轴4的直径,使得移动辊3可以相对于固定轴4径向移动。

固定辊5的两端分别通过轴承座8安装在左支架1和右支架2上,该固定辊5位于移动辊3的下方,固定辊5和移动辊3相平行设置,固定辊5和移动辊3之间设有与标准厚度的基材相配合的间隙。

位移传感器6用于检测移动辊3的径向位移,该位移传感器6安装在左支架1或右支架2上,该位移传感器6的输出端连接至控制器。

两个气缸7分别安装在左支架1和右支架2上,两个气缸7的活塞杆均竖直向下设置且分别与两个固定轴4连接。

基带从移动辊3和固定辊5之间的间隙中穿过,移动辊3和固定辊5之间的间隙刚好可以允许标准厚度的基材通过,当基材厚度异常或基材表面沾有异物时,基材或基材表面的异物将会触碰到移动辊3或固定辊5,这就会使得移动辊3向上移动,也就是说当位移传感器6检测到移动辊3向上移动时,则表明基材厚度异常或基材表面沾有异物,位移传感器6的检测数据发送到控制器。

以上仅就本实用新型应用较佳的实例做出了说明,但不能理解为是对权利要求的限制,本实用新型的结构可以有其他变化,不局限于上述结构。总之,凡在本实用新型的独立权利要求的保护范围内所作的各种变化均在本实用新型的保护范围内。

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