[实用新型]高温窑炉放置架的支撑柱结构改进有效

专利信息
申请号: 201420012596.2 申请日: 2014-01-09
公开(公告)号: CN203949502U 公开(公告)日: 2014-11-19
发明(设计)人: 曾碧寅 申请(专利权)人: 福建省德化县创捷窑具有限公司
主分类号: F27D5/00 分类号: F27D5/00
代理公司: 代理人:
地址: 362500 福建省*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 高温 放置 支撑 结构 改进
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及高温窑炉的窑具领域,特别是涉及卫生陶瓷放置架的支撑柱结构。 

背景技术

卫生陶瓷通常都是比较大件且重量较重的产品,如马桶、洗手盆、小便池等,生产过程中都需要摆放稳固,不然容易引起磕碰而导致产品破碎,在高温窑炉烘制时,需将要进行烘制卫生陶瓷摆放在放置架上,然后再送入高温窑炉内进行烘制。 

现有的卫生陶瓷放置架,如图1所示,由多个支撑柱1’多行多列平行摆放,多根横梁2’搭放在支撑柱1’上,在多根横梁2’上搭放副梁3’构成,所述支撑柱1’为结构简单的方形柱,为使横梁2’搭放稳定支撑柱1’的上端面上开设有横梁槽11’,这种结构的支撑柱1’在运送过程中如有晃动,容易倒掉,导致放置架倒塌,压破卫生陶瓷产品。 

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种能够使支撑结构更稳固的支撑柱,以解决现有技术的不足之处。 

为实现上述目的,本实用新型技术方案是这样的: 

一种高温窑炉放置架的支撑柱结构改进,包括支撑柱本体,所述支撑柱 本体包括两两相对的梯形上底面、下底面、梯形两斜边面和两侧边面构成梯型结构,所述上底面上开设有横梁槽,所述支撑柱本体的上底面向上延伸并向两梯形斜边面方向延伸形成上底座,所述横梁槽开设在上底座上,所述支撑柱本体的下底面向下延伸并向两梯形斜边面方向延伸形成下底座,上底座向两梯形斜边面方向延伸的宽度小于下底座向两梯形斜边面方向延伸的宽度。 

所述支撑柱本体的两侧边面开设有相贯通的散热孔。 

所述散热孔沿支撑柱本体的高度方向上下排列开设多个,两两散热孔之间形成连接两梯形斜边面的连接板。 

采用上述技术方案后,本实用新型的有益效果是:与现有技术相比,本实用新型的支撑柱本体结构采用了呈梯型的结构,根据梯形的形状特征上窄下宽,能够使得支撑柱本体的重心下移,使支撑柱本体站立更稳固,不容易受外力作用晃动,从而达到本实用新型的目的。 

附图说明

图1为现有技术的结构示意图; 

图2为本实用新型支撑柱本体的结构示意图; 

图3为本实用新型安装放置架的结构示意图。 

图中: 

支撑柱      1’  横梁    2’ 

副梁        3’  横梁槽  11’ 

支撑柱本体  1    上底面  11    下底面12 

斜边面      13   侧边面  14    横梁槽15 

上底座      16   下底座  17    散热孔18 

连接板      19 

具体实施方式

下面通过结合附图和实施例,来具体阐述一下本实用新型的技术方案。 

一种高温窑炉放置架的支撑柱结构改进,如图2所示,包括支撑柱本体1,所述支撑柱本体1包括两两相对的梯形上底面11、下底面12、梯形两斜边面13和两侧边面14构成梯型结构,所述上底面11上开设有用于搭放横梁2’的横梁槽15,所述梯形两斜边面13与梯形下底面12的夹角度数范围为75°~90°,该结构与现有技术相比,支撑柱本体1结构采用了呈梯型的结构,根据梯形的形状特征上窄下宽,能够使得支撑柱本体1的重心下移,使支撑柱本体1站立更稳固,不容易受外力作用晃动,从而达到本实用新型的目的。 

如图2所示,为使支撑柱本体1摆放更稳固,优选的,所述支撑柱本体1的上底面11向上延伸并向两梯形斜边面13方向延伸形成上底座16,所述横梁槽15开设在上底座16上,所述支撑柱本体1的下底面12向下延伸并向两梯形斜边面13方向延伸形成下底座17,上底座16向两梯形斜边面13方向延伸的宽度小于下底座17向两梯形斜边面13方向延伸的宽度。 

如图2所示,进一步,所述支撑柱本体1的两侧边面14开设有相贯通的散热孔18,散热孔18的作用是加快支撑柱本体1的散热。 

进一步,所述散热孔18沿支撑柱本体1的高度方向上下排列开设多个,两两散热孔18之间形成连接两梯形斜边面13的连接板19,该结构设计不仅结构坚固,还增大了支撑柱本体1的散热面积,还能够减轻支撑柱本体1的重量便于搬运。 

如图3所示,是本实用新型安装放置架的结构示意图,由多个支撑柱本体1多行多列平行摆放,多根横梁2’搭放在支撑柱本体1上,在多根横梁2’上搭放副梁3’构成,放置架的结构更加稳固。 

综上所述仅为本实用新型较佳的实施例,并非用来限定本实用新型的实施范围。即凡依本实用新型申请专利范围的内容所作的等效变化及修饰,皆应属于本实用新型的技术范畴。 

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