[实用新型]一种低辐射镀膜玻璃

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种镀膜玻璃，更具体的涉及一种低辐射镀膜玻璃。

背景技术

目前，透明介质膜在大面积镀膜玻璃中的应用十分广泛。其中，陶瓷态氧化锌铝（AZO）由于溅射速率快，可使用纯Ar进行溅射，溅射条件易控，可节省隔气靶位且薄膜可见光透过高等优点而得到广泛研究及应用。但是，陶瓷态AZO靶在安装使用一段时间后，表面容易出现结瘤放电现象，严重影响了靶材的使用功率和寿命，同时也会造成镀膜产品存在颜色波动的隐患。AZO膜层作为Ag的打底层容易脱膜。

实用新型内容

本实用新型的目的是针对现有技术的技术缺陷，本实用新型旨在提供一种低辐射镀膜玻璃，为实现以上技术目标，本实用新型采用以下技术方案：一种掺杂硼化镧AZO低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀膜层，镀膜层自内向外依次包括：第一层TiOx、第二层：LaB₆-AZO、第三层：Ag、第四层：NiCr、第五层：LaB₆-AZO、第六层：Si₃N₄，第二层Ag打底层是LaB₆-AZO。

进一步，所述的LaB₆-AZO层采用真空磁控溅射法直接溅射掺入LaB₆的氧化锌铝靶材，其中LaB₆掺入量是2.5～10wt%。

一种低辐射镀膜玻璃，第一层TiOx厚度为15～25nm、第二层：LaB₆-AZO厚度为20～30nm、第三层：Ag厚度为5～15nm、第四层：NiCr厚度1～5nm、第五层：LaB₆-AZO厚度15～25nm、第六层：SiNx厚度20～45nm。

一种低辐射镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：

（1）使用丙酮、无水乙醇和去离子水依次超声清洗玻璃基片；

（2）烘干；

（3）放入真空腔室内进行抽真空；

（4）达到真空度后充入1200sccm纯Ar气溅射陶瓷氧化钛靶材进行靶表清洁，5min后纯氩溅射进行TiOx薄膜的制备；

（5）达到厚度后关闭该靶，依次纯氩进行靶表清洁和掺杂LaB₆的AZO靶、Ag靶、NiCr靶和顶层LaB₆的AZO膜层；

（6）用纯Ar进行靶表清洁，然后使用Ar：N₂为1:1.6的混合气体溅射制备SiNx膜。

本实用新型玻璃基片厚度包括：4、5、6、8、10、12、15、19mm。玻璃颜色包括：超白玻、白玻、绿玻、灰玻、水晶灰玻、蓝玻、海洋蓝玻、茶色玻璃等。玻璃结构包括：夹层玻璃、彩釉玻璃、钢化玻璃、半钢化玻璃、退火玻璃、防火玻璃、中空玻璃等。

本实用新型镀膜玻璃具有以下优点：

1.本镀膜产品可见光透过率较高，透过率相对AZO可提高3～4%；

2.该膜层表面更加平整，在Low-E产品中，作为Ag的打底层与Ag的结合力更好；

3.该材料膜层的辐射率比未掺杂LaB₆的AZO辐射率低；

4.产品性能稳定，适于大规模生产，光学及热学性能稳定。该玻璃具有良好的外观颜色，膜层不易脱落等特点。可夹层或合中空使用。

附图说明

图1掺杂硼化镧AZO低辐射镀膜玻璃结构示意图

图2玻面反射光谱

图3膜面反射光谱

图4透过光谱

具体实施方式

为了阐明本发明的技术方案及技术目的，下面结合附图及具体实施方式对本发明做进一步的介绍。

实施例1

一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀膜层，镀膜层自内向外依次包括：第一层TiOx、第二层：LaB₆-AZO、第三层：Ag、第四层：NiCr、第五层：LaB₆-AZO、第六层：Si₃N₄，第二层Ag打底层是LaB₆-AZO。

第一层TiOx厚度为20nm、第二层LaB₆-AZO厚度为24nm、第三层Ag厚度为6nm、第四层NiCr厚度1.9nm、第五层LaB₆-AZO厚度18nm、第六层SiNx厚度30nm。

所述的LaB₆-AZO层采用真空磁控溅射法直接溅射掺入LaB₆的氧化锌铝靶材，其中LaB₆掺入量是5wt%。