[实用新型]一种真空镀膜装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜领域，尤其是涉及一种真空镀膜装置。

背景技术

真空镀膜技术中，往往将材料高温加热，然后冷却到基片形成薄膜，在镀膜过程中，由于材料会形成气体，气体具有不稳定性，并且由于真空镀膜的腔体的腔体较大，这样会使薄膜形成的不均匀；另外，由于真空腔体内存在多个蒸发源，当使用其中一个蒸发源时，会对其他的蒸发源造成污染，影响镀膜的质量。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种真空镀膜装置，结构简单，使用方便，镀膜均匀，能够避免蒸渡过程中的交叉污染。

本实用新型的技术方案是：一种真空镀膜装置，包括腔体，所述的腔体内设置有探头、放置基片的模板、第一蒸发源和第二蒸发源；所述的腔体旁侧设置有气管；所述的气管与外部的真空泵连接；所述的第一蒸发源上设置有圆锥形的防护罩。

进一步的，所述的圆锥形的防护罩可以用设置在第一蒸发源和第二蒸发源之间的挡板替代。

进一步的，所述挡板为可活动的。

本实用新型具有的优点和积极效果是：由于采用上述技术方案，结构简单，使用方便，镀膜均匀，能够避免蒸渡过程中的交叉污染。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

图2是本实用新型实施例二的结构示意图。

图中：

1、腔体 2、探头 3、气管 4、真空泵 5、模板 6、第一蒸发源7、第二蒸发源 8、防护罩 9、挡板

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型做详细说明。

实施例一

如图1所示，本实用新型一种真空镀膜装置，包括腔体1，所述的腔体1内设置有探头2、放置基片的模板5、第一蒸发源6和第二蒸发源7；所述的腔体1旁侧设置有气管3；所述的气管3与外部的真空泵4连接；所述的第一蒸发源6上设置有圆锥形的防护罩8。因此，圆锥形的防护罩8既避免了蒸发源的污染，由于使气态的蒸渡材料受到了空间的限制，又可以使镀膜均匀。

实施例二

实施例二与实施例一的不同之处在于：如图1-2所示，所述的圆锥形的防护罩8可以用设置在第一蒸发源6和第二蒸发源7之间的挡板9替代；所述挡板9为可活动的。挡板9的作用是避免蒸发源的污染，使之不影响镀膜的质量。

以上对本实用新型的一个实施例进行了详细说明，但所述内容仅为本实用新型的较佳实施例，不能被认为用于限定本实用新型的实施范围。凡依本实用新型申请范围所作的均等变化与改进等，均应仍归属于本实用新型的专利涵盖范围之内。