[发明专利]异羟肟酸衍生物及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种式I化合物，其对映异构体、非对映异构体、外消旋体或其混合物，或药学上可接受的盐，

式中，R₁为取代的C₁-C₆烷基，所述取代是指具有选自下组的取代基：羟基、氨基；

m为1；

n为1；

X为-O-；

R₂为-SO₂(C₁-C₃烷基)取代的C₁-C₆烷基。

2.如权利要求1所述的式I化合物，其特征在于，式I化合物中各手性碳原子的构型独立地为R型或S型。

3.如权利要求1所述的式I化合物，其特征在于，R₁为羟基或氨基取代的C₁-C₄烷基。

4.如权利要求1所述的式I化合物，其特征在于，R₂为-SO₂CH₃取代的C₁-C₆烷基。

5.如权利要求1所述的式I化合物，其特征在于，R₂为-SO₂CH₃取代的C₁-C₄烷基。

6.如权利要求1所述的式I化合物，其特征在于，所述式I化合物为：

或

7.如权利要求1所述的式I化合物的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

(a)式I-1化合物与式I-2化合物缩合得到式I-3化合物；

(b)式I-3化合物与式I-4化合物反应得到式I-5化合物；

(c)式I-5化合物与羟胺反应得到式I化合物，

其中，X的定义如权利要求1所述，

各式中，R₁为被保护或未被保护的、取代的C₁-C₆烷基，所述取代是指具有选自下组的取代基：羟基、氨基；

R₂为被保护或未被保护的-SO₂(C₁-C₃烷基)取代的C₁-C₆烷基；

Y为乙炔基或卤素；

且当R₁为被保护的、取代的C₁-C₆烷基和/或R₂为被保护的-SO₂(C₁-C₃烷基)取代的C₁-C₆烷基时，所述方法还包括去除保护基的步骤，所述保护基选自：叔丁氧羰基、对甲氧基苄基、二苯甲基、苄基、叔丁基二甲基硅基、叔丁基二苯基硅基、烯丙基、甲氧基甲基、甲硫基甲基、甲氧基乙氧基甲基、苄氧基甲基。

8.一种药物组合物，其特征在于，所述药物组合物包含：

权利要求1所述的式I化合物，其对映异构体、非对映异构体、外消旋体或其混合物，或药学上可接受的盐；以及

药学上可接受的载体。

9.如权利要求1所述的式I化合物或权利要求8所述的药物组合物的用途，其特征在于，用于：

(1)制备抑制LpxC脱乙酰酶的药物；

(2)制备预防和/或治疗细菌感染的药物；

(3)制备抑制细菌生长的药物。

10.如权利要求9所述的用途，其特征在于，所述细菌感染是革兰氏阴性菌感染。

11.如权利要求10所述的用途，其特征在于，所述革兰氏阴性菌选自：大肠杆菌、铜绿假单胞菌、鲍曼不动杆菌。