[发明专利]近中红外光学波段大角度入射多波段高反射膜的制备方法

权利要求书

1.一种近中红外光学波段大角度入射多波段高反射膜的制备方法，其特征在于包括以下镀制工艺步骤：

(1)以G为石英玻璃材料为基底，L为Al₂O₃膜料，H为ZnS膜料，Air为折射率N_A＝1的空气介质，膜系参考波长λ_c＝800nm；以隔绝石英玻璃材料表面与空气水分接触的硬质防潮膜层，采用膜系设计公式：

G/0.2L1.3046H1.5386L1.3867H1.4427L1.4299H1.489L1.334H1.5283L1.4085H1.3947L1.4859H1.4534L1.3168H1.625L1.292H1.4612L4.2291H7.2759L4.2232H4.5239L4.307H7.1105L4.4724H5.6527L4.7646H6.5785L/Air计算每层膜的光学厚度值，并按光学厚度值顺序列表格，将上述H、L膜料依次放入镀膜机真空室的电子枪蒸发源坩锅内备用；；

(2)在镀膜基底超声波清洗工艺中，用清洗液清洁被镀基底，吹干，放入真空室抽真空待镀；

(3)加温烘烤基底，在真空环境下，在30℃～200℃范围内逐渐升温烘烤；

(4)在光学膜层粘接打底工艺和应力匹配工艺中，根据前述膜系设计公式计算出的各层膜的光学厚度值和表格顺序，将Al₂O₃和ZnS两种膜料依次放入旋转速率为100～120转/分钟的旋转电子枪蒸发源坩锅中，然后用光学真空镀膜机按所述步骤(1)的公式列表顺序和厚度值完成镀膜；

(5)在离子源辅助蒸镀工艺中，用离子源在镀膜前和镀膜过程中轰击基底，一直让其产生的离子束轰击基底到镀膜完成；

(6)在高低温退火工艺中，将镀完膜的球罩在真空室自然冷却到室温后进行退火处理。

2.如权利要求1所述的近中红外光学波段大角度入射多波段高反射膜的制备方法，其特征在于，所述的镀膜基底超声波清洗工艺是将石英玻璃放入盛有乙醇作清洗液的超声波清洗机内，选用中档位清洗10分钟，再换用丙酮清洗液清洗10分钟，用高纯氮气吹干，放入洁净的真空室载盘架并关门抽真空待镀。

3.如权利要求1所述的近中红外光学波段大角度入射多波段高反射膜的制备方法，其特征在于，所述的光学膜层粘接打底工艺，是将与石英玻璃基底粘接的0.2L层膜料(Al₂O₃)镀制在第一层。

4.如权利要求1所述的近中红外光学波段大角度入射多波段高反射膜的制备方法，其特征在于，所述的光学膜层应力匹配工艺是将上述H和L两种膜料按照其检测到的应力性质，使压应力膜料和张应力膜料交替排布。

5.如权利要求1所述的近中红外光学波段大角度入射多波段高反射膜的制备方法，其特征在于，在加温烘烤基底时，当抽真空到10^－3Pa量级时，从30℃开始加烘烤，缓慢升温一直 升到200℃保温120分钟，工件旋转20转/分钟。

6.如权利要求1所述的近中红外光学波段大角度入射多波段高反射膜的制备方法，其特征在于，所述的离子源辅助蒸镀工艺是在镀膜前将离子源参数调到：屏极电压600V，束流85mA，充纯度四个9的高纯氩气Ar或氧气O₂，将真空度控制在1.0×10^－2Pa之间，用产生的离子束轰击球罩基底20分钟。

7.如权利要求1所述的近中红外光学波段大角度入射多波段高反射膜的制备方法，其特征在于，高低温退火工艺是将镀完膜的石英玻璃自然冷却到室温后，再从真空室转移到干燥箱进行退火处理：从40℃开始升温，每升温10℃再恒温10分钟，一直升到130℃，恒温8～10小时后降温，每降温10℃恒温10分钟，降到常温40℃，取出检测待用。

8.如权利要求1所述的近中红外光学波段大角度入射多波段高反射膜的制备方法，其特征在于，镀膜前，将考夫曼型离子源辅助沉积装置的离子源参数调到：屏极电压600V，束流85mA，充纯度四个9的高纯氩气Ar或氧气O₂，用充气和真空控制系统将真空度控制在1.0×10^－2Pa，让离子源产生的离子束轰击石英玻璃基底7-10分钟。