[发明专利]一种化学机械抛光液在审
| 申请号： | 201410852464.5 | 申请日： | 2014-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN104592896A | 公开（公告）日： | 2015-05-06 |
| 发明（设计）人： | 刘卫丽;宋志棠 | 申请（专利权）人： | 上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C23F3/02;C23F3/04 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 梁海莲 |
| 地址： | 201506 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
1.一种化学机械抛光液，其特征在于，以所述化学机械抛光液的总质量计，所述化学机械抛光液包括以下组分及重量百分含量：
2.如权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于，所述氧化物抛光颗粒选自胶体二氧化硅，所述胶体二氧化硅中二氧化硅的粒径范围为20～1500nm。
3.如权利要求2所述化学机械抛光液，其特征在于，所述二氧化硅的粒径范围为30～200nm。
4.如权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于，所述氧化剂选自双氧水、过硫酸盐、高碘酸盐、次氯酸盐、硝酸盐、亚硝酸盐、过碳酸盐和过硼酸盐中的一种或多种。
5.如权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于，所述螯合剂选自氨三乙酸、羟基乙叉二膦酸、乙二胺四甲基膦酸钠、二乙烯三胺五甲叉膦酸、乙二胺二邻苯基乙酸和三聚磷酸钠中的一种或多种。
6.如权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于，所述络合剂选自乙二胺四乙酸、乙二胺四乙酸二钠、乙二胺四乙酸四钠和酒石酸钾钠中的一种或多种。
7.如权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于，所述表面活性剂选自十二烷基苯磺酸钠、聚氧乙烯硫酸钠、聚丙烯酸钠、聚氧乙烯醚磷酸酯、烷基醇聚氧乙烯基醚、十六烷基三甲基溴化铵中的一种或多种。
8.如权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于，所述pH调节剂选自硝酸、磷酸、氢氧化钾、氢氧化钠、氨水、羟乙基乙二氨、四甲基氢氧化氨和乙二胺的一种或多种。
9.如权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于，所述化学机械抛光液的pH为8～12。
10.一种制备如权利要求1～9任一项所述化学机械抛光液在铝、铁及其合金材料上的应用。
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