[发明专利]一种液晶面板基板及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201410852369.5 申请日: 2014-12-31
公开(公告)号: CN104536192A 公开(公告)日: 2015-04-22
发明(设计)人: 李子健 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/1333
代理公司: 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 代理人: 朱绘;张文娟
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 液晶面板 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种液晶面板基板,其特征在于,所述基板包括:

玻璃基片;

遮光层,其设置在所述玻璃基片上;

主动层,其设置在所述遮光层上。

2.如权利要求1所述的基板,其特征在于,所述遮光层包括光阻层,所述光阻层的材料包括非晶硅、多晶硅、有色非金属硅化物或上述材料的任一组合。

3.如权利要求2所述的基板,其特征在于,所述遮光层还包括第一隔离层,所述第一隔离层设置在所述光阻层与主动层之间。

4.如权利要求3所述的基板,其特征在于,所述第一隔离层、光阻层和主动层具有相同的图案。

5.如权利要求1~4中任一项所述的基板,其特征在于,所述基板还包括第二隔离层,第二隔离层设置在所述玻璃基片与遮光层之间。

6.如权利要求5所述的基板,其特征在于,所述第二隔离层、遮光层和主动层是通过一次性连续成膜形成的。

7.一种制作液晶面板基板的方法,其特征在于,所述方法包括:

在玻璃基片上形成遮光层;

在所述遮光层上形成主动层;

对所述主动层和遮光层进行刻蚀,得到所需要的液晶面板基板。

8.如权利要求7所述的方法,其特征在于,形成遮光层的步骤包括:

在所述玻璃基片上形成光阻层,所述光阻层的材料包括非晶硅、多晶硅、有色非金属硅化物或上述材料的任一组合;

在所述光阻层上形成第一隔离层。

9.如权利要求7所述的方法,其特征在于,所述方法在玻璃基片上形成遮光层之前,还在玻璃基板上形成第二隔离层。

10.如权利要求7~9中任一项所述的方法,其特征在于,在所述遮光层上形成主动层的步骤包括:

在所述遮光层上形成非晶硅层;

对所述非晶硅层进行退火处理,形成所述主动层。

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