[发明专利]化学气相沉积设备

权利要求书

1.一种化学气相沉积设备，其特征在于，包括：反应腔体(100)、设于所述反应腔体(100)内的加热平台(200)、设于所述加热平台(200)下方的加热平台支撑座(301)、设于所述加热平台支撑座(301)下方的加热平台支撑杆(302)；

所述加热平台(200)与加热平台支撑座(301)分别对应设有至少2个螺纹孔，通过中空内六角螺栓(400)将加热平台(200)固定于加热平台支撑座(301)上；

所述加热平台(200)与加热平台支撑座(301)还对应设有至少2个卡套结构(500)，通过所述卡套结构(500)将加热线(700)、及热电偶(800)连接至加热平台(200)。

2.如权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于，还包括分别对应设于加热平台(200)、及加热平台支撑座(301)的两个接触面上的密封槽(600)，所述密封槽(600)内对应设有密封圈。

3.如权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述加热平台支撑座(301)、及加热平台支撑杆(302)为一体式结构，共同支撑所述加热平台(200)。

4.如权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述中空内六角螺栓(400)包括：外壁(401)、与外壁(401)相对的内壁(402)、由内壁(402)围成的通孔(403)、设于所述通孔(403)底部的内六角凹槽(404)。

5.如权利要求4所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述中空内六角螺栓(400)的外壁(401)为铝合金材料，内壁(402)为陶瓷材料。

6.如权利要求4所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述通孔(403)用于放置用于基板定位的定位销。

7.如权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述卡套结构(500)包括：设于所述加热平台(200)上的凹槽(501)、及与所述凹槽(501)相对应的设置在所述加热平台支撑座(301)上的接线柱(502)，所述接线柱(502)的上端高于加热平台支撑座(301)的上平面。

8.如权利要求7所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述接线柱(502)内连接有加热线(700)或热电偶(800)。

9.如权利要求7所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述凹槽(501)的内壁(503)为陶瓷材料，所述接线柱(502)位于所述加热平台支撑座(301)中的该部分的外围设有一层陶瓷壁(504)。