[发明专利]一种蓝宝石抛光废液的再处理方法在审

专利信息
申请号: 201410831543.8 申请日: 2014-12-23
公开(公告)号: CN105778777A 公开(公告)日: 2016-07-20
发明(设计)人: 王良咏;王雨春;戴程隆 申请(专利权)人: 安集微电子(上海)有限公司
主分类号: C09G1/02 分类号: C09G1/02
代理公司: 上海翰鸿律师事务所 31246 代理人: 李佳铭
地址: 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 蓝宝石 抛光 废液 处理 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种蓝宝石抛光废液的再处理方法。

背景技术

随着节能灯、智能终端设备的推广,蓝宝石衬底得到了越来越广泛的应 用。蓝宝石质硬(莫氏硬度为9,仅次于金刚石)、化学惰性,难以加工。但 为达到所需的镜面效果,通常仍需耗费数小时进行化学机械抛光精抛工艺。 目前蓝宝石精抛液需求量大,如很多大的蓝宝石厂,每月所需的精抛液在几 十吨甚至上百吨。与此同时,废液处理成为一道难题。胶体二氧化硅基碱性 蓝宝石抛光废液,直接倾倒达不到环保要求,直接再利用又无法达到抛光效 率要求;而每月处理几十吨甚至上百吨废液,则对利润微薄的蓝宝石厂构成 沉重成本压力。

故如何处理蓝宝石抛光废液,成为一个亟待解决的问题。

发明内容

为了解决以上技术问题,本申请的发明人给出了一种抛光蓝宝石用抛光 液废液的处理方法,通过该处理方法处理后的抛光液重新达到抛光要求,即 可实现重复利用。

本发明提供了一种蓝宝石抛光废液的再处理方法,其中该蓝宝石抛光废 液中包括胶体二氧化硅研磨颗粒,该再处理方法包括:

将前述蓝宝石抛光废液进行湿法刻蚀;

将蚀刻后的前述蓝宝石抛光废液的pH值重新调节至蓝宝石抛光液初始 值。

其中,前述再处理方法进一步包括对湿法蚀刻后的所述蓝宝石抛光废液 使用阳离子交换树脂进行纯化。

其中,前述湿法刻蚀包括使用0.1M浓度(摩尔浓度)以上无机和/或有 机强酸,将蓝宝石抛光废液pH值调节至4以下,并搅拌5min以上。其中, 前述无机强酸包括硫酸、磷酸、盐酸、氢氟酸、硝酸,前述有机强酸包括乙 酸、草酸、酒石酸、柠檬酸。

其中,pH值的前述初始值为9-11。其中,适合用于调节蚀刻后蓝宝石 抛光废液pH值的酸包括硝酸、硫酸和盐酸及有机酸,适合用于调节蚀刻后 蓝宝石抛光废液pH值的碱包括氨水、氢氧化钠、氢氧化钾及有机碱。其中 有机酸优选地可为柠檬酸、酒石酸、草酸,有机碱优选地可为四甲基氢氧化 铵、哌嗪、乙醇胺。

其中前述胶体二氧化硅研磨颗粒的浓度为0.00001-50wt%。

需要说明的是,阳离子交换树脂可采用不同类型阳离子树脂。使用阳离 子交换树脂的目的是去除抛光液中的阳离子如Na、K、Zn、Cu、Al、Ca、 Cr、Ni、W或Mn等金属离子,尤其用于除掉酸化后溶解于溶液中的Al离 子。

本申请的发明人发现,通过以上方法处理的含有二氧化硅研磨颗粒的蓝 宝石抛光废液,可重新实现其抛光效率,可重复利用,从而解决了蓝宝石抛 光废液难处理的问题。

本申请的发明人认为,以上处理方法之所以能够达到重新实现废液的再 利用的效果,是因为在使用胶体二氧化硅基抛光液蓝宝石抛光机理为:胶体 二氧化硅表面与蓝宝石表面发生固相反应,蓝宝石表面氧化铝在固相反应及 机械剪切力的作用下,以分子级形式被去除后、完全包裹在胶体二氧化硅表 面。正因为抛光废液中胶体二氧化硅表面被氧化铝包裹,其表面为疏松结构 的氧化铝、表面基团为结合氧,失去了原有新鲜抛光液的反应活性,抛光废 液的抛光效率远远低于新鲜抛光液。故若使用湿法刻蚀方法溶除蓝宝石抛光 后抛光废液中胶体二氧化硅表面被包裹的氧化铝、恢复氧化硅表面,则可重 新实现废液的抛光效率。另外,含阳离子交换步骤可进一步除掉Al等金属 离子,进一步恢复蓝宝石抛光液活性。

故根据以上机理,本申请的发明人通过湿法蚀刻-阳离子交换-pH调节的 处理方法,使得蓝宝石抛光废液可重复利用,该方法操作简单,可有效降低 蓝宝石抛光的材料成本。

具体实施方式

下面通过实施例的方式进一步说明本发明,并不因此将本发明限制在所 述的实施例范围之中。

效果实施例

实施例

采用对比例抛光液和本发明的实施例抛光液按照下述条件对2英寸c向 蓝宝石片进行抛光。抛光条件:抛光垫为陶氏电子IC1010,下压力为10psi, 转速为抛光盘/抛光头=60/80rpm,抛光液流速为100ml/分钟,抛光时间为2 分钟。结果如表1所示。

表1本发明的化学机械抛光液制备实施例1~6以及对比例1~2及去除速率

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