[发明专利]微波GaAs衬底在片S参数微带线TRL校准件有效

专利信息
申请号: 201410828986.1 申请日: 2014-12-26
公开(公告)号: CN104502878B 公开(公告)日: 2018-07-31
发明(设计)人: 刘晨;梁法国;吴爱华;孙静;孙晓颖;栾鹏 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十三研究所
主分类号: G01R35/00 分类号: G01R35/00
代理公司: 石家庄国为知识产权事务所 13120 代理人: 米文智
地址: 050051 *** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 微波 gaas 衬底 参数 微带 trl 校准
【权利要求书】:

1.一种基于微波GaAs衬底在片S参数微带线TRL校准件,其特征在于:包括GaAs衬底层(2),所述GaAs衬底层(2)下表面连接有金属层(1),其上表面设有直通标准件Thru(3)、反射标准件Reflect(4)和传输线标准件Line(5)的图形结构,所述直通标准件Thru(3)、反射标准件Reflect(4)和传输线标准件Line(5)的地压点(6)分别通过贯穿GaAs衬底层(2)的接地柱(7)与所述金属层(1)连接,所述GaAs衬底层(2)设有与接地柱(7)相适配的接地通孔;所述直通标准件Thru(3)和传输线标准件Line(5)的特征阻抗为50Ω,校准时的校准频率范围为2GHz~26.5GHz;所述GaAs衬底层与被测件的衬底层相同;探针压点附近的结构与被测件上相对应的结构相同;

其中,所述直通标准件Thru(3)的长度为196μm,校准时直通标准件Thru的长度值定义为0μm;所述反射标准件Reflect(4)采用开路实现,校准时延迟补偿定义值为0ps;

所述传输线标准件Line(5)有5条,分别为415μm、576μm、1173μm、3129μm和4596μm,校准时相对直通标准件Thru对各传输线标准件Line的长度进行定义,定义值分别为219μm、380μm、977μm、2933μm和4400μm;

所述直通标准件Thru(3)、反射标准件Reflect(4)和传输线标准件Line(5)相对探针压点的位置设有二维压点对标线,所述二维压点对标线的对标线宽度为2μm。

2.根据权利要求1所述的微波GaAs衬底在片S参数微带线TRL校准件,其特征在于:所述GaAs衬底层(2)的相对介电常数为12.9,厚度为100μm,所述金属层(1)的厚度为15μm,其材质为金。

3.根据权利要求1所述的微波GaAs衬底在片S参数微带线TRL校准件,其特征在于:所述地压点(6)的大小为120μm×120μm,并设有45°倒角,所述接地柱(7)直径为40μm。

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