[发明专利]一种稳态结构分离膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201410821808.6 | 申请日： | 2014-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN104524995A | 公开（公告）日： | 2015-04-22 |
| 发明（设计）人： | 王春雷;鲁云华;李琳;王同华;金鑫;徐瑞松 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学 |
| 主分类号： | B01D71/06 | 分类号： | B01D71/06;B01D69/02;B01D67/00 |
| 代理公司： | 大连东方专利代理有限责任公司 21212 | 代理人： | 李娜;李馨 |
| 地址： | 116024 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 稳态 结构 分离 及其 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种稳态结构分离膜，是将聚合物膜在氧化性气氛下，于150～500℃处理至少0.1h所得，
其中，所述聚合物为具有线性分子结构的热塑性聚合物。
2.根据权利要求1所述的分离膜，其特征在于：所述聚合物为聚丙烯腈、聚砜、聚醚砜、聚醚酰亚胺、聚酰亚胺、聚醚砜酮、聚芳醚酮、聚芳醚砜、聚醚睛酮、酚醛树脂、并噁嗪树脂、氰酸酯树脂类聚合物中的一种或多种。
3.根据权利要求1所述的分离膜，其特征在于：氧化性气氛由含氧混合气提供，所述含氧混合气由5～50％(V/V)的氧化性气体和余量载气组成。
4.根据权利要求1所述的分离膜，其特征在于：所述氧化性气体为氧气、空气或臭氧。
5.根据权利要求1所述的分离膜，其特征在于：是将聚合物膜在氧化性气氛下，于150～500℃处理0.1～24h所得，升温速率1～20℃/min。
6.一种制备权利要求1所述分离膜的方法，其特征在于：将聚合物膜在氧化性气氛下，于150～500℃处理至少0.1h，
其中，所述聚合物为具有线性分子结构的热塑性聚合物。
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