[发明专利]非制冷红外焦平面阵列非均匀性校正的方法和装置

权利要求书

1.一种非制冷红外焦平面阵列非均匀性校正的方法，所述方法包括以下步骤：

a、对非制冷红外焦平面阵列上的每个像元在两个目标温度下进行两次测试，得到第一目标温度T₁和第二目标温度T₂下每个像元的输出电压V_out,i(T₁)和V_out,i(T₂)，其中i代表第i个像元；

b、分别对所述第一目标温度和第二目标温度下所有像元的输出电压求平均值，得到和

c、根据所述的所有像元在第一目标温度和第二目标温度下的平均值，分别计算各像元在第一目标温度和第二目标温度下的输出电压值与该温度下所有像元的输出电压平均值的输出电压差异量ΔV_i(T₁)和ΔV_i(T₂)；

d、依次对各像元在第一目标温度和第二目标温度下得到的两个输出电压差异量ΔV_i(T₁)和ΔV_i(T₂)进行运算，得到各像元所需的电压调节量ΔV_i；

e、根据所述各像元的电压调节量在查找表中查询所需DAC(数字/模拟转换)偏移量；

f、用所述的DAC偏移量对各像元的输出进行校正。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤b中，在第一目标温度T₁下和第二目标温度T₂下所有像元电压输出的平均值分别由V‾out(T1)=1M×NΣi=1M×NVout,i(T1)]]>和V‾out(T2)=1M×NΣi=1M×NVout,i(T2)]]>两个公式计算得到，其中M和N分别表示像元阵列的行数和列数。