[发明专利]一种降低辐射成像系统检测剂量的方法在审

专利信息
申请号: 201410818725.1 申请日: 2015-08-04
公开(公告)号: CN104502944A 公开(公告)日: 2015-07-29
发明(设计)人: 李立涛;王立强;谈春明;童建民;黄毅斌;刘金汇;王振涛;郭肖静;邢桂来;郑健 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: G01T1/08 分类号: G01T1/08
代理公司: 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 11003 代理人: 尹振启
地址: 100084*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 降低 辐射 成像 系统 检测 剂量 方法
【权利要求书】:

1.一种降低辐射成像系统检测剂量的方法,所述系统包括射线源、前准直器、阵列探测器,前准直器与阵列探测器之间为供待检物体通过的检测通道,前准直器将射线源发出的射线准直成片状扇形束,该片状扇形束穿过检测通道后由阵列探测器接收并成像,其特征在于,所述片状扇形束到达对应阵列探测器中每个探测器入射窗时的全影区宽度都与该探测器射线入射窗的宽度相匹配。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述片状扇形束全影区的张角跟所述阵列探测器与所述射线源围成的包络角相匹配。

3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,所述片状扇形束全影区的张角等于或略大于由阵列探测器与射线源围成的包络角。

4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述片状扇形束到达对应所述阵列探测器中每个探测器入射窗时的全影区宽度等于或略大于该探测器射线入射窗的宽度。

5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述前准直器的准直比为100~200。

6.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述探测器的入射窗宽度为5~30mm。

7.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述射线源为活度0.8~8居里的钴-60放射源,或225~450keV的X射线源。

8.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述前准直器上的射线出射口的外轮廓形状为与所述阵列探测器中探测器的排列形状相对应的相似的形状。

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