[发明专利]一种铜铟镓硒薄膜太阳电池掺钾元素的方法在审

专利信息
申请号: 201410812495.8 申请日: 2014-12-23
公开(公告)号: CN105789371A 公开(公告)日: 2016-07-20
发明(设计)人: 申绪男 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十八研究所
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0749
代理公司: 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 代理人: 李凤
地址: 300384 天津*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 铜铟镓硒 薄膜 太阳电池 元素 方法
【权利要求书】:

1.一种铜铟镓硒薄膜太阳电池掺钾元素的方法,其特征是:铜铟镓硒薄膜太阳电池掺 钾元素的方法包括以下工艺过程:

步骤1.在衬底上制作背电极

通过直流磁控溅射沉积系统在电池衬底上沉积与厚度为500-700nm的Mo作为 背电极;

步骤2.在背电极上采用共蒸发方法制备铜铟镓硒吸收层

采用共蒸发三步法在背电极上制作铜铟镓硒吸收层,第一步衬底温度250-300 ℃,第二步和第三步衬底温度450-480℃范围;

步骤3.铜铟镓硒吸收层薄膜进行掺钾元素处理

三步法制备铜铟镓硒吸收层工艺结束后,不关闭硒蒸发源,关闭其他金属蒸发 源,降低衬底温度到275-300℃范围内,同时对装有氟化钾元素的蒸发源加热,加 热温度为670-700℃,蒸发9-11分钟;

步骤4.制备铜铟镓硒薄膜太阳电池

在铜铟镓硒薄膜上面自下至上依次制作缓冲层CdS;i-ZnO层;透明窗口层; 减反射层和栅线电极。

2.根据权利要求1所述的铜铟镓硒薄膜太阳电池掺钾元素的方法,其特征是:Mo背电 极为双层结构,接近衬底的为高阻Mo层,厚度100-150nm,在高阻Mo层上再沉积 400-550nm的低阻Mo层。

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