[发明专利]一种单步化学脱合金制备Cu-Ag纳米多孔片结构方法

权利要求书

1.一种单步化学脱合金制备Cu-Ag纳米多孔片结构方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1：制备Zr-Cu-Ag-Al合金：将纯Zr、纯Cu、纯Ag和纯Al按比例进行混合，在氩气气氛中，反复多次进行熔炼，待试样成分均匀后冷却得到Zr-Cu-Ag-Al合金锭；

步骤2：制备Zr-Cu-Ag-Al带合金：将步骤1中所得Zr-Cu-Ag-Al合金锭制备成Zr-Cu-Ag-Al合金带；

步骤3：脱合金：将步骤2中所得Zr-Cu-Ag-Al合金带置于氢氟酸溶液中，在室温下放置进行化学脱合金；

步骤4：清洗干燥：将步骤3中所得脱合金后的Zr-Cu-Ag-Al合金带取出，分别使用去离子水和酒精浸泡清洗，然后再置于酒精中并进行超声波分散处理，干燥后得到Cu-Ag纳米多孔片结构。

2.根据权利要求1所述的一种单步化学脱合金制备Cu-Ag纳米多孔片结构方法，其特征在于，所述步骤1中纯Zr、纯Cu、纯Ag和纯Al的原子比为Zr：Cu：Ag：Al＝48：36：8：8。

3.根据权利要求1所述的一种单步化学脱合金制备Cu-Ag纳米多孔片结构方法，其特征在于，所述步骤1中熔炼过程采用采用电弧熔炼或感应熔炼方法。

4.根据权利要求1所述的一种单步化学脱合金制备Cu-Ag纳米多孔片结构方法，其特征在于，所述步骤2中制备Zr-Cu-Ag-Al合金带采用单辊旋淬的方法。

5.根据权利要求1所述的一种单步化学脱合金制备Cu-Ag纳米多孔片结构方法，其特征在于，所述步骤2中所得Zr-Cu-Ag-Al合金带的厚度为20μm～100μm，宽度大于2mm，长度为2m以上。

6.根据权利要求1所述的一种单步化学脱合金制备Cu-Ag纳米多孔片结构方法，其特征在于，所述步骤3中将步骤2中所得Zr-Cu-Ag-Al合金带截断进行脱合金，截断后的长度为20mm～50mm。

7.根据权利要求1所述的一种单步化学脱合金制备Cu-Ag纳米多孔片结构方法，其特征在于，所述步骤3中氢氟酸溶液的浓度为0.05mol/L。

8.根据权利要求1所述的一种单步化学脱合金制备Cu-Ag纳米多孔片结构方法，其特征在于，所述步骤3中化学脱合金时间为24小时。

9.根据权利要求1所述的一种单步化学脱合金制备Cu-Ag纳米多孔片结构方法，其特征在于，所述Cu-Ag纳米多孔片结构的厚度不大于100nm，孔径不大于100nm。