[发明专利]BOA阵列基板的制作方法及BOA阵列基板在审
申请号: | 201410805404.8 | 申请日: | 2014-12-22 |
公开(公告)号: | CN104536221A | 公开(公告)日: | 2015-04-22 |
发明(设计)人: | 许勇;熊源 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | boa 阵列 制作方法 | ||
技术领域
本发明涉及液晶显示领域,特别是涉及一种BOA阵列基板的制作方法及BOA阵列基板。
背景技术
彩膜阵列集成技术(BOA,Black Matrix ON Array),能减少两个基板对位时的偏差,增加液晶显示面板的开口率,降低液晶显示面板的寄生电容,被广泛应用于液晶显示面板的制作中。
在阵列基板上制作黑色矩阵(Black Matrix)时,由于黑色矩阵不具有透光性,因此在对黑色矩阵进行曝光时,容易造成阵列基板和黑色矩阵的对位偏差,从而影响该BOA阵列基板的制作质量,进而影响液晶显示面板的画面显示品质。
故,有必要提供一种BOA阵列基板的制作方法及BOA阵列基板,以解决现有技术所存在的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种不易造成阵列基板和彩色滤光片对位偏差的BOA阵列基板的制作方法及BOA阵列基板;以解决现有的BOA阵列基板容易产生阵列基板和彩色滤光片的对位偏差,进而影响液晶显示面板的画面显示品质的技术问题。
为解决上述问题,本发明提供的技术方案如下:
本发明实施例提供一种BOA阵列基板的制作方法,其包括:
制作阵列基板,其中所述阵列基板包括显示区域以及非显示区域,在所述阵列基板的所述非显示区域设置金属层,以阻挡所述非显示区域的漏光;以及
在所述阵列基板的所述显示区域涂布黑色矩阵,并对所述黑色矩阵进行图形化处理。
在本发明所述的BOA阵列基板的制作方法中,所述对所述黑色矩阵进行图形化处理的步骤之后还包括步骤:
在所述阵列基板上涂布彩色光阻层,对所述彩色光阻层进行图形化处理,以在所述阵列基板上形成彩色光阻;
其中所述彩色光阻包括红色光阻、蓝色光阻以及绿色光阻。
在本发明所述的BOA阵列基板的制作方法中,所述在所述阵列基板上设置彩色光阻的步骤包括:
在所述阵列基板的所述非显示区域设置用于遮光的所述彩色光阻。
在本发明所述的BOA阵列基板的制作方法中,所述用于遮光的所述彩色光阻为红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻的叠层结构;红色光阻和蓝色光阻的叠层结构;或红色光阻和绿色光阻的叠层结构。
本发明还提供一种BOA阵列基板的制作方法,其包括:
制作阵列基板,其中所述阵列基板包括显示区域以及非显示区域;
在所述阵列基板的所述显示区域涂布黑色矩阵,并对所述黑色矩阵进行图形化处理;以及
在所述阵列基板上设置彩色光阻,其中在所述阵列基板的非显示区域设置用于遮光的所述彩色光阻,以阻挡所述非显示区域的漏光。
在本发明所述的BOA阵列基板的制作方法中,所述在所述阵列基板上设置彩色光阻的步骤包括:
在所述阵列基板上涂布彩色光阻层,对所述彩色光阻层进行图形化处理,以在所述阵列基板上形成彩色光阻;
其中所述彩色光阻包括红色光阻、蓝色光阻以及绿色光阻。
在本发明所述的BOA阵列基板的制作方法中,所述用于遮光的所述彩色光阻为红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻的叠层结构;红色光阻和蓝色光阻的叠层结构;或红色光阻和绿色光阻的叠层结构。
本发明还提供一种BOA阵列基板,其包括:
阵列基板层,包括用于显示图像的显示区域以及用于间隔不同像素的非显示区域;以及
黑色矩阵,设置在所述阵列基板层的所述显示区域,用于吸收所述阵列基板层的所述非显示区域的出射光;
其中在所述阵列基板层的所述非显示区域设置有用于阻挡非显示漏光的金属层。
在本发明所述的BOA阵列基板中,所述BOA阵列基板还包括:
彩色光阻层,设置在所述阵列基板层的所述显示区域,用于将所述BOA阵列基板的出射光转换为各种单色光,所述彩色光阻层包括红色光阻、蓝色光阻以及绿色光阻;以及
遮光色阻层,设置在所述阵列基板层的所述非显示区域的所述金属层上;
其中所述遮光色阻层为红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻的叠层结构;红色光阻和蓝色光阻的叠层结构;或红色光阻和绿色光阻的叠层结构。
本发明还提供一种BOA阵列基板,其包括:
阵列基板层,包括用于显示图像的显示区域以及用于间隔不同像素的非显示区域;
黑色矩阵,设置在所述阵列基板层的所述显示区域,用于吸收所述阵列基板层的所述非显示区域的出射光;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司;,未经深圳市华星光电技术有限公司;许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410805404.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。