[发明专利]光学校正装置与光学校正方法有效

专利信息
申请号: 201410804432.8 申请日: 2014-12-22
公开(公告)号: CN105783708B 公开(公告)日: 2019-05-28
发明(设计)人: 张奕威;力欧·马 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: G01B11/00 分类号: G01B11/00;G01B11/06
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国;常大军
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 光学 校正 装置 方法
【说明书】:

一种光学校正装置与光学校正方法,光学校正装置包括至少一发光量测模块以及一定位校正模块。至少一发光量测模块发出至少一入射光线至一定位校正片,其中定位校正片反射至少一入射光线而产生至少一反射光线。定位校正模块耦接至少一发光量测模块,以及接收至少一反射光线以产生关于至少一反射光线的至少一校正图案,并且对至少一校正图案进行量测与分析以校正至少一发光量测模块的倾斜角度偏差及/或平面错位偏差。

技术领域

发明涉及一种光学校正装置,且特别涉及一种利用发光量测装置取得光学影像以进行校正的光学校正装置与光学校正方法。

背景技术

一般而言,使用非接触式光学技术量测物体厚度有两种方法。第一种方法是使用一个量测模块,取得待测物体上、下表面的两组反射信号以计算出厚度信息。但是这种方法所计算出的量测结果容易受到待测物体的介质的影响,故不适合使用。第二种方法是使用两个量测模块,通过上、下两个量测模块对待测物体进行量测,再依据所回传的信号计算出厚度信息。举例而言,对于蓝宝石晶圆抛光后的厚度量测与晶圆厚度量测等,皆是利用此方法来进行量测。厚度量测的基准在于上、下两个量测模块需要量测到物体上相同的位置点,因此两个量测模块的量测定位校准对于厚度量测具有重大的影响。

然而,就第二种方法而言,为了确保得到准确的厚度数值,则必须先通过位移机构来进行校正。一般现有的调整方式只单纯通过双轴移动平台来移动,并没有通过其他工具进行辅助,无法确保两个量测模块对位的准确性。因此,需要一种光学校正装置与光学校正方法,取得校正图案并提升量测模块的对位的准确性与便利性,准确取得量测模块的光点位置,提升光学量测的准确性。

发明内容

有鉴于此,本发明的主要目的,在于提供一种光学校正装置与光学校正方法,使用至少一发光量测模块以及一定位校正模块,藉由取得与分析校正图案,校正光学装置的倾斜角度偏差与平面错位偏差,以提升量测模块的对位的准确性与便利性。

本发明提供一种光学校正装置,包括至少一发光量测模块以及一定位校正模块。至少一发光量测模块发出至少一入射光线至一定位校正片,其中定位校正片反射至少一入射光线而产生至少一反射光线。定位校正模块耦接至少一发光量测模块,以及接收至少一反射光线以产生关于至少一反射光线的至少一校正图案,并且对至少一校正图案进行量测与分析以校正至少一发光量测模块的倾斜角度偏差及/或平面错位偏差。

本发明提供一种光学校正装置,包括一第一发光量测模块、一第二发光量测模块以及一定位校正模块。第一发光量测模块配置于定位校正片的一第一侧,第二发光量测模块配置于定位校正片的一第二侧,其中第二侧不同且相对于第一侧。当第一发光量测模块分别配置于第一高度以及第二高度时,第一发光量测模块分别发出第一入射光线与第二入射光线至定位校正片以分别产生第一校正图案与第二校正图案,定位校正模块量测与分析第一校正图案以及第二校正图案上的坐标位置以校正第一发光量测模块的倾斜角度偏差,并且当第二发光量测模块分别配置于一第三高度以及不同于第三高度的一第四高度时,第二发光量测模块分别发出一第三入射光线与一第四入射光线至定位校正片以分别产生一第三校正图案与一第四校正图案,第一发光量测模块停止发出第一入射光线与第二入射光线,定位校正模块量测与分析第三校正图案以及第四校正图案上的坐标位置以校正第二发光量测模块的倾斜角度偏差。当第一发光量测模块配置于一第五高度时,第一发光量测模块发出一第五入射光线至定位校正片以产生一第五校正图案,当第二发光量测模块配置于一第六高度时,第二发光量测模块发出一第六入射光线至定位校正片以产生一第六校正图案,第一发光量测模块停止发出第五入射光线,定位校正模块量测与分析第五校正图案以及第六校正图案上的坐标位置以校正第一发光量测模块与第二发光量测模块的平面错位偏差。

本发明提供一种光学校正方法,包括藉由至少一发光量测模块发出至少一入射光线至一定位校正片;藉由定位校正片反射至少一入射光线而产生至少一反射光线;接收至少一反射光线以产生关于至少一反射光线的至少一校正图案;以及量测与分析至少一校正图案以校正至少一发光量测模块的倾斜角度偏差及/或平面错位偏差。

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