[发明专利]可视化集成电路设计架构在审
申请号: | 201410791801.4 | 申请日: | 2014-12-19 |
公开(公告)号: | CN105760563A | 公开(公告)日: | 2016-07-13 |
发明(设计)人: | 吴国盛 | 申请(专利权)人: | 吴国盛 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 山东清泰律师事务所 37222 | 代理人: | 柳彦君 |
地址: | 266000 山东省青*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 可视化 集成电路设计 架构 | ||
1.可视化集成电路设计架构,其特征在于,包括界面设计单元、算法设计单元以及融合单元:
所述界面设计单元内封装模块、引脚、连接线,用于进行可视化拖拽操作设计;
所述算法设计单元设置代码编辑器,用于输入、编辑程序代码;
融合单元生成界面设计单元的电路模块、引脚、连接线的代码,并与算法设计单元的输入代码融合形成具有完整的代码的模型。
2.根据权利要求1所述的可视化集成电路设计架构,其特征在于:模块设置若干可视化、可编辑的属性。
3.基于权利要求1所述的可视化集成电路设计架构的代码生成方法,其特征在于,包括以下步骤:
A:在界面设计单元新建若干模块,并设置模块的属性,根据每个模块的属性生成相应的声明代码;
B:在算法设计单元输入算法程序代码,将模块中手动输入的代码部分,放在声明代码中相应的位置;
C:编辑模块的引脚的属性,不同模块根据相互关系由连接线连接;
D:对模块例化进行声明,根据模块的属性和模块上每个引脚连接的信息进行例化模块代码的自动生成;
E:将代码段每行进行编号,结构层的行编号+1之后成为代码层的起始编号;
F:保存并运行,执行代码错误检查对错误代码行标记并修改,直至将错误代码全部修改正确。
4.根据权利要求1或2所述的基于分层读取的集成电路设计架构,其特征在于:所述集成电路设计架构中采用的程序代码为基于Verilog、VHDL或者SystemC语言的代码。
5.根据权利要求3所述的可视化集成电路设计架构的代码生成方法,其特征在于:所述集成电路设计架构中采用的程序代码为基于基于Verilog、VHDL或者SystemC语言的代码。
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