[发明专利]钕离子掺杂氧化钪氧化镥混晶激光材料及其制备方法有效
| 申请号： | 201410789277.7 | 申请日： | 2014-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN104498034A | 公开（公告）日： | 2015-04-08 |
| 发明（设计）人： | 姜本学;张阳;张龙;范金太;张攀德;毛小建 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | C09K11/78 | 分类号： | C09K11/78 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司31213 | 代理人： | 张泽纯;张宁展 |
| 地址： | 201800上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 离子 掺杂 氧化 镥混晶 激光 材料 及其 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种钕离子掺杂氧化钪氧化镥混晶激光材料，其特征在于该激光材料的分子式为Nd：LuxSc2-xO3，其中x的取值范围为：0.1≤x≤1.9。
2.权利要求1所述的钕离子掺杂氧化钪氧化镥混晶激光材料的制备方法，其特征在于该方法的具体步骤如下：
(1)选定x的取值，按Nd：LuxSc2-xO3的摩尔比将Lu2O3、Sc2O3、Nd2O3经过200-250目筛过筛称量后装入圆形或方形模具中压制成块体；
(2)将所述的块体放入真空烧结炉中，抽真空至10-3Pa以下，加热至1600-1800℃，保温3-10h，选取致密度≥90％的烧结品；
(3)将所述的致密度≥90％的烧结品放入热等静压炉中，在Ar气气氛下加压至200-300MPa，加热至1800-2000℃，保温5-20h，得到Nd：LuxSc2-xO3混晶激光材料。
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