[发明专利]一维棒状空心二氧化硅纳米囊及其制备方法有效
申请号: | 201410788250.6 | 申请日: | 2014-12-17 |
公开(公告)号: | CN104556069A | 公开(公告)日: | 2015-04-29 |
发明(设计)人: | 龚俊波;路平超;董伟兵;侯杰;王静康;尹秋响 | 申请(专利权)人: | 天津大学 |
主分类号: | C01B33/18 | 分类号: | C01B33/18;B82Y30/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人: | 王丽 |
地址: | 300072 天*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一维棒状 空心 二氧化硅 纳米 及其 制备 方法 | ||
1.一维棒状空心二氧化硅纳米囊,其特征在于:一维棒状空心二氧化硅纳米囊外貌为棒状,长径比为1.5-4.5,空壳厚度为20-40nm。
2.一维棒状空心二氧化硅纳米囊的制备方法,其特征是包括如下步骤:
a)将表面活性剂加入去离子水中,常温下超声至完全溶解,然后加入浓氨水搅拌;氨水在水中的浓度为0.21~0.42mol/L;表面活性剂在水中的浓度为0.002~0.008g/mL。
b)加入硅源,在20~40℃下搅拌1~4小时,离心洗涤;
c)将上述洗涤后产品分散于水和乙醇的混合溶液中,超声分散,然后加入浓氨水搅拌;氨水在混合溶液中的浓度为0.17~0.33mol/L;
d)加入硅源,在20~40℃下搅拌4~6小时,离心洗涤,得到双层硅产品;所加入的硅源与步骤b)加入硅源的摩尔比为1:1~4;
e)将双层硅产品,加入聚乙烯吡咯烷酮,超声分散于水中,磁力搅拌下回流3~6个小时,离心洗涤;
f)洗涤后产品,加入刻蚀剂,反应15~30分钟,离心洗涤、干燥、煅烧。
3.如权利要求2所述的方法,其特征是所述表面活性剂的通式为:CaH2a+4NBr或者CaH2a+4NCl,其中a为12~18。
4.如权利要求3所述的方法,其特征是所述表面活性剂是C12H28NBr、C14H32NBr、C16H36NBr、C18H40NBr、C12H28NCl、C14H32NCl、C16H36NCl或C18H40NCl中的一种。
5.如权利要求2所述的方法,其特征是所述硅源为正硅酸乙酯、正硅酸甲酯或正硅酸丙酯。
6.如权利要求2所述的方法,其特征是所述硅源与表面活性剂的摩尔比为7~9:1。
7.如权利要求2所述的方法,其特征是所述步骤c)水和乙醇的体积比为1:6~8。
8.如权利要求2所述的方法,其特征是所述聚乙烯吡咯烷酮与双层硅的摩尔比为6~10:1。
9.如权利要求2所述的方法,其特征是所述刻蚀剂为碳酸钠水溶液、氢氧化钠水溶液、碳酸钾水溶液或氢氧化钾水溶液中的一种。
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