[发明专利]调查带电粒子射束的波阵面的方法在审

专利信息
申请号: 201410785676.6 申请日: 2014-12-18
公开(公告)号: CN104733271A 公开(公告)日: 2015-06-24
发明(设计)人: B.J.詹斯森;I.拉兹;G.范杜恩恩;U.鲁伊肯;R.D.萨瓦格;S.H.L.范登布姆 申请(专利权)人: FEI公司
主分类号: H01J37/244 分类号: H01J37/244
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 申屠伟进;张懿
地址: 美国俄*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 调查 带电 粒子 波阵面 方法
【权利要求书】:

1.一种调查从源通过发光器被引导以便穿过样本平面并且降落到检测器上的带电粒子射束的波阵面的方法,检测器的输出与数学重建技术结合使用以便在沿着到检测器的波阵面路径的预先定义的位置处针对波阵面计算相位信息和振幅信息中的至少一个,

其特征在于:

-使所述射束穿过设置在所述样本平面和所述检测器之间的粒子光学透镜系统;

-在从所述源到所述检测器的路径中的所选择位置处,调制器用于局部地产生波阵面的给定调制;

-在一系列测量阶段中,采用不同的此类调制,并且在所述数学重建中共同地使用相关联的检测器输出。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,从包括振幅调制、相位调制和其组合的组中选择所述调制。

3.根据权利要求1或2所述的方法,其中,所述所选择的位置被设置在所述透镜系统的图像空间中。

4.根据权利要求3所述的方法,其中,所述所选择的位置被设置在或邻近于所述透镜系统的图像平面。

5.根据权利要求1-4中任何一项所述的方法,其中,调制器包括: 

-至少一个掩蔽板;

-致动器系统,能够用于调整从包括以下各项的组中选择的参数: 

  所述掩蔽板相对于所述透镜系统的光轴的位置;

  所述掩蔽板相对于所述光轴的旋转姿态;

  所述掩蔽板的形状;

  所述掩蔽板的大小,

和其组合。

6.根据权利要求1-5中任何一项所述的方法,其中,调制器包括相位调制器。

7.根据权利要求6所述的方法,其中,调制器包括:

-至少一个相位调制元件;

-调整系统,其能够用于调整从包括以下各项的组中选择的参数:

  所述元件相对于所述透镜系统的光轴的位置;

  所述元件相对于所述光轴的旋转姿态;

  应用到所述元件的电势或电流,

和其组合。

8.根据权利要求1-7中任何一项所述的方法,其中,发光器利用基本上平坦的波阵面来照射样本平面。

9.根据权利要求1-8中任何一项所述的方法,其中:

-没有样本被放置在样本平面中;

-当波阵面进入样本平面时,针对波阵面执行波阵面重建。

10.根据权利要求1-8中任何一项所述的方法,其中:

-样本被放置在样本平面中;

-当波阵面从样本出射时,针对波阵面执行波阵面重建。

11.一种用于执行带电粒子射束的波阵面重建的装置,包括:

-带电粒子的源;

-发光器,用于将带电粒子从所述源引导到样本平面上;

-样本保持器,位于所述样本平面处;

-检测器,用于检测穿过样本平面的带电粒子;

-控制器,用于分析来自所述检测器的输出并且在数学重建技术中使用它,以便在沿着到检测器的波阵面路径的预先定义位置处针对所述波阵面计算相位信息和振幅信息中的至少一个,

其特征在于,装置进一步包括:

-在所述样本平面和所述检测器之间设置的粒子光学透镜系统;

-调制器,用于在从所述源到所述检测器的路径中的所选择的位置处产生波阵面的给定调制。

12.根据权利要求11所述的装置,其中:

-所述粒子光学透镜系统包括串联布置的物镜和投影透镜;

-所述物镜能够将所述样本平面成像到图像平面上;

-所述调制器被设置在或邻近于所述图像平面。

13.根据权利要求11或12所述的装置,所述装置被包括在透射电子显微镜中。

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