[发明专利]一种硅晶片精抛光组合物及制备方法

权利要求书

1.一种硅晶片精抛光组合物，其特征在于，该组合物包括二氧化硅溶胶、羟基含氮碱性化合物、羟基羧基酸性化合物、碱性化合物、高分子化合物、表面活性剂和去离子水；所述二氧化硅溶胶中磨粒的粒径为0.1-10nm。

2.根据权利要求1所述的组合物，其特征在于，所述组合物各组分配比如下：

3.根据权利要求1或2所述的组合物，其特征在于，所述二氧化硅溶胶是粒径为0.1～10nm的胶体二氧化硅，pH小于6的酸性硅溶胶。

4.根据权利要求3所述的组合物，其特征在于，所述羟基羧基酸性化合物为柠檬酸、水杨酸、羟基乙酸、苹果酸、乳酸中的一种。

5.根据权利要求3所述的组合物，其特征在于，所述羟基含氮碱性化合物为异丙醇胺、乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺中的一种。

6.根据权利要求3所述的组合物，其特征在于，所述高分子化合物为纤维素，具体为羧甲基纤维素、磺酸乙基纤维素、羧甲基羟乙基纤维素、羧乙基甲基纤维素、羟丙基甲基纤维素、羟丁基甲基纤维素、羟乙基纤维素中的一种或几种。

7.根据权利要求3所述的组合物，其特征在于，所述表面活性剂为非离子表面活性剂。非离子表面活性剂为聚乙烯醇(PVA)、聚乙二醇(PEG)、聚乙烯醚(PEO)、吐温(TWEEN)中的一种或几种。

8.根据权利要求3所述的组合物，其特征在于，所述碱性化合物为碳酸铵、碳酸氢铵、氨水、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、三甲基羟乙基氢氧化铵、二甲基二羟乙基氢氧化铵、无水哌嗪或六水哌嗪中的一种或几种。

9.根据权利要求3所述的组合物，其特征在于，所述组合物的pH为8～12。

10.根据权利要求3所述的组合物，其特征在于，所述组合物含0.1～10nm酸性硅溶胶8wt％，含0.1wt％羟基乙酸、0.4wt％二乙醇胺、0.3wt％羟乙基纤维素、0.05wt％羟丙基甲基纤维素、0.3wt％聚乙烯醚、2.0wt％氨水。

11.根据权利要求1-10项中任一项所述的组合物的制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

(1)在容器1中，加入将分散于水中并高速搅拌的0.1～10nm的酸性纳米二氧化硅溶胶与羟基羧基酸性化合物混合，搅拌5分钟以上；

(2)向容器1中加入羟基含氮碱性化合物，搅拌5分钟以上；

(3)在容器2中，加入纤维素高分子化合物，再加入表面活性剂，搅拌5分钟以上；

(4)向容器2中再加入容器1中的混合物，搅拌5分钟以上；

(5)加入碱性化合物，搅拌混合后得到成品。