[发明专利]抛光头,化学机械抛光系统和抛光衬底的方法在审

专利信息
申请号: 201410756619.5 申请日: 2014-12-10
公开(公告)号: CN104708529A 公开(公告)日: 2015-06-17
发明(设计)人: 许书斌;林任贵;巫丰印;王生城;李重佑 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: B24B37/10 分类号: B24B37/10;B24B37/30
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;李伟
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 抛光 化学 机械抛光 系统 衬底 方法
【权利要求书】:

1.一种用于化学机械抛光系统的抛光头,所述抛光头包括:

承载头;以及

多个压力单元,布置在所述承载头上,其中,至少两个压力单元位于相对于所述承载头的中轴线的同一圆周线上。

2.根据权利要求1所述的抛光头,其中,至少一个所述压力单元是气动压力单元。

3.根据权利要求1所述的抛光头,其中,至少一个所述压力单元包括:

底壁;

至少两个相对的第一隔壁,将所述底壁连接至所述承载头;

至少两个相对的第二隔壁,将所述底壁连接至所述承载头,从而使得所述底壁、所述第一隔壁、所述第二隔壁和所述承载头限定压力室;以及

源,用于将流体引入所述压力室内。

4.根据权利要求3所述的抛光头,其中,所述第一隔壁基本上沿着相对于所述承载头的中轴线的圆周方向延伸,并且所述第二隔壁基本上沿着相对于所述承载头的中轴线的径向方向延伸。

5.根据权利要求4所述的抛光头,其中,至少一个所述第二隔壁是圆弧状。

6.根据权利要求4所述的抛光头,其中,至少一个所述第二隔壁是板状。

7.根据权利要求3所述的抛光头,其中,所述底壁、所述第一隔壁和所述第二隔壁由一块柔性材料制成。

8.根据权利要求1所述的抛光头,其中,至少一个所述压力单元是圆形压力单元。

9.一种化学机械抛光系统,包括:

抛光头,包括:

承载头;和

多个压力单元,布置在所述承载头上,其中,所述压力单元沿着相对于所述承载头的中轴线的至少一个圆周线至少部分地布置;

台板,设置在所述抛光头之下;以及

浆料引入机构,设置在所述台板之上。

10.一种用于抛光衬底的方法,所述方法包括:

将浆料供给至抛光垫上;

将所述衬底保持为与所述抛光垫相对;

单独地驱动位于相对于所述衬底的中轴线的同一圆周线上的至少两个压力单元;以及

旋转所述抛光垫和所述衬底。

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