[发明专利]一种利用表面等离激元散射对纳米物质进行成像的检测方法有效
申请号: | 201410751328.7 | 申请日: | 2014-12-09 |
公开(公告)号: | CN104792746B | 公开(公告)日: | 2018-06-26 |
发明(设计)人: | 路鑫超;刘虹遥;陈鲁 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | G01N21/63 | 分类号: | G01N21/63 |
代理公司: | 北京华沛德权律师事务所 11302 | 代理人: | 刘杰 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 表面等离激元 纳米物质 散射 油浸物镜 金薄膜 成像 后焦平面 反射光 盖玻片 入射光 检测 表面传播 表面激发 镀金薄膜 扩束整形 散射信号 斜入射 附着 光源 聚焦 转化 | ||
本发明公开一种利用表面等离激元散射对纳米物质进行成像的检测方法,所述检测方法包括:在盖玻片上镀金薄膜;在所述金薄膜上附着纳米物质;光源发出的光经过扩束整形后,以p偏振态聚焦到油浸物镜的后焦平面;调节入射光在油浸物镜的后焦平面上的位置,使入射光斜入射到所述盖玻片上,在所述金薄膜表面激发表面等离激元,所述表面等离激元沿金薄膜表面传播,与所述纳米物质产生散射;所产生的表面等离激元散射转化为光信号与反射光一起被油浸物镜收集;通过CCD对所收集的包含有表面等离激元散射信号的反射光进行成像。
技术领域
本发明涉及纳米物质检测技术领域,尤其涉及一种利用表面等离激元散射对纳米物质进行成像的检测方法。
背景技术
近年来,随着纳米科学与技术的不断发展,人们对纳米物质的关注越来越多,例如碳纳米管、量子点、以及病毒等。由于显微镜的分辨率受到使用波长的限制,光学衍射极限使得光学显微镜无法检测尺寸小于200纳米的物质。
而电子波长远远小于光学波长,因此,利用电子显微镜可以对纳米物质进行成像检测。电子显微镜主要包括透射电子显微镜(TEM)与扫描电子显微镜(SEM),使用电子束作为光源,可以突破衍射极限,将显微镜的分辨率提高到纳米量级。但是,由于电子束穿透力弱,采用透射电子显微镜检测的样品必须为超薄切片,因此,对样品要求比较高。而扫描电子显微镜则需要样品具有导电性,而且扫描时间长。且这两种电子显微镜均需要真空操作,使整个仪器成本高,体积庞大,难以移动。
另外,扫描隧道显微镜(STM)利用探针与样品表面产生电子隧穿效应,利用隧道电流获取样品表面信息,具有原子量级的高分辨率,但是这种显微镜也要求样品具有导电性。原子力显微镜(AFM)可以用于检测绝缘体样品,利用针尖与样品表面的轻微作用力,对样品表面进行检测,这种显微镜扫描时间长,也需要真空操作,成本高。
因此,上述可用于纳米物质检测的显微镜方法对样品要求严格,扫描时间长,无法快速获得检测结果,需要真空操作,成本高、体积大。
发明内容
本申请提供一种利用表面等离激元散射对纳米物质进行成像的检测方法,解决了现有技术中的检测方法对样品要求严格,扫描时间长,无法快速获得检测结果,需要真空操作,成本高、体积大的技术问题。
本申请提供一种利用表面等离激元散射对纳米物质进行成像的检测方法,所述检测方法包括:在盖玻片上镀金薄膜;在所述金薄膜上附着纳米物质;光源发出的光经过扩束整形后,以p偏振态聚焦到油浸物镜的后焦平面;调节入射光在油浸物镜的后焦平面上的位置,使入射光斜入射到所述盖玻片上,在所述金薄膜表面激发表面等离激元,所述表面等离激元沿金薄膜表面传播,与所述纳米物质产生散射;所述表面等离激元散射转化为光信号与反射光一起被油浸物镜收集;通过CCD对所收集的光进行成像。
优选地,所述通过CCD对所收集的光进行成像,包括:用CCD测量无任何纳米物质的反射光作为背景光斑;用CCD测量有所述纳米物质的反射光作为当前光斑;将所述背景光斑与所述当前光斑相减,获得所述纳米物质引起表面等离激元散射场。
优选地,所述纳米物质为病毒、纳米颗粒、碳纳米管、量子点中的一种或多种。
优选地,所述光源为激光器或发光二级管,所述光的波长范围为355纳米~800纳米。
优选地,使用Kretschmann(克莱舒曼)结构激发所述表面等离激元。
优选地,所述金薄膜的厚度范围为30纳米~60纳米。
优选地,所述油浸物镜的数值孔径范围NA=1.0~1.7。
优选地,所述入射光斜入射到所述盖玻片上的入射角为30度-60度。
优选地,所述金薄膜表面可以为空气或者液体介质。
本申请有益效果如下:
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