[发明专利]正型感光性组合物

说明书

技术领域

本发明涉及一种于抗蚀剂领域等中可利用的正型感光性组合物。

背景技术

经图案化的透明膜是于间隔物、绝缘膜、保护膜等显示元件的很多领域中使用，至今在该用途中已提出有多种正型感光性组合物(例如参照专利文献1～专利文献3)。

通常，薄膜晶体管型液晶显示元件或固体摄影元件等电子零件中，为了使配置为层状的配线之间绝缘而设置有绝缘膜。近年来所制造的所述元件中，由于使用可形成既定形状的图案的绝缘膜，故而广泛使用形成膜的步骤数少即可的正型感光性组合物。正型感光性组合物必须在形成绝缘膜的过程中具有广泛的制程范围。进而，使用正型感光性组合物而形成的绝缘膜或具有该绝缘膜的显示元件有时会在制造后步骤中与溶剂、酸、碱溶液等接触。因此，对绝缘膜要求具有高的耐溶剂性、耐酸性、耐碱性等。

近年来，进而还有在所形成的透明膜(图案状透明膜)上于高温下形成无机膜的用途。该情况下，无机膜是利用化学蒸镀、溅射等方法来形成。为了利用这些成膜法来获得优质的膜，需要高温的步骤(非专利文献1)。即，成为这些无机膜的基底的透明膜也会暴露于高温中。若透明膜的耐热性不足，则于高温制程中通过透明膜的热分解而产生脱离气体，因其影响而无法获得优质的无机膜。另外，因热劣化而在透明膜上产生着色，难以在要求透明性的用途中使用。进而，在膜内部产生热应力，透明膜的耐龟裂性下降。由于这些原因，要求具有350℃以上的高耐热性的正型感光性组合物。作为供于这些用途的正型感光性组合物，已有若干提案(例如参照专利文献4及专利文献5)。专利文献4中介绍了含有硅氧烷聚合物与萘醌系感光剂的材料，另外，专利文献5中介绍了将硅氧烷聚合物与酰亚胺化合物、以及萘醌系感光剂混合而成的材料。然而，这些材料均难以满足制程中的耐龟裂性、高透明性(透射率、透明度)以外的所有要求特性。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开昭51-34711号公报

[专利文献2]日本专利特开昭56-122031号公报

[专利文献3]日本专利特开平5-165214号公报

[专利文献4]日本专利特开2006-178436号公报

[专利文献5]日本专利特开2009-15285号公报

[非专利文献]

[非专利文献1]《利用内置纳米结构的透明氧化物功能培养(Function Cultivation of Transparent Oxides Utilizing Built-In Nanostructure)》，《日本化学学会通报(Bulletin of the Chemical Society of Japan)》第79卷第1期第24页(2006)

发明内容

[发明所欲解决的问题]

在如上所述的状况下，谋求一种耐热性、透明性、与基底的密接性、耐龟裂性等优异，且可经过利用碱水溶液的显影步骤而形成经图案化的透明膜(图案状透明膜)的正型感光性组合物。

[解决问题的技术手段]

本发明为一种正型感光性组合物，其含有硅氧烷聚合物(A)、具有特定结构的萘醌二叠氮化物衍生物(B)以及有机溶剂(C)，所述正型感光性组合物的特征在于：使该组合物在350℃以上进行热硬化而获得的硬化膜的在波长400nm下的透光率为95％以上。

本发明包括以下各项。

[1]一种正型感光性组合物，其含有硅氧烷聚合物(A)、下述式(1)或式(2)所表示的萘醌二叠氮化物衍生物(B)、以及有机溶剂(C)；并且

使该组合物在350℃以上进行热硬化而获得的硬化膜的在波长400nm下的每1μm膜厚的透光率为95％以上，

式中，R¹及R²分别独立地表示芳基。

[2]如[1]项所述的正型感光性组合物，其特征在于：式(1)的R¹或式(2)的R²是选自下述式(3)～式(6)所表示的一价基的组群中的1种，

R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸及R⁹分别独立地表示氢或者碳数1～5的烷基。