[发明专利]一种非晶态光学薄膜微区应力的测量方法有效
申请号: | 201410717404.2 | 申请日: | 2014-12-02 |
公开(公告)号: | CN104568248A | 公开(公告)日: | 2015-04-29 |
发明(设计)人: | 季一勤;刘华松;刘丹丹;姜承慧;王利栓;杨霄;孙鹏;冷健 | 申请(专利权)人: | 中国航天科工集团第三研究院第八三五八研究所 |
主分类号: | G01L1/24 | 分类号: | G01L1/24 |
代理公司: | 中国兵器工业集团公司专利中心 11011 | 代理人: | 刘东升 |
地址: | 300308 天津市*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 晶态 光学薄膜 应力 测量方法 | ||
1.一种非晶态光学薄膜微区应力的测量方法,其特征在于,其包括如下步骤:
步骤S1:建立薄膜材料应力双折射x-y-z坐标系物理模型,其中,x-y平面为薄膜表面,z轴垂直于薄膜表面,沿x轴的nx、沿y轴的ny、沿z轴的nz分别表示三个方向的折射率,沿x轴的σx、沿y轴的σy、沿z轴的σz分别表示三个方向的主轴应力;
步骤S2:首先利用椭圆偏振仪测量薄膜的反射椭圆偏振参数Ψ(λ)和Δ(λ),设定测量波长范围为λmin-λmax,测量步长为Δλ,λmin和λmax的取值在薄膜材料的透明区域内,入射角度为θ;
步骤S3:对薄膜材料建立单轴折射率方程,建立光在平面单轴晶体内部传输的物理模型和数学计算模型,令nx=ny=n;
步骤S4:薄膜-基底的反射椭圆偏振参数由薄膜和基底的折射率、薄膜的厚度df、入射角度θ共同确定,使用非线性优化算法,对测量的反射椭偏参数进行反演计算,当测量数据与理论计算的数据基本一致时,可认为反演计算成功;因此提前设定薄膜反演计算的评价函数如下:
其中,MSE是测量值与理论模型计算值的均方差,N为测量波长的数目,M为变量个数,ψiexp和Δiexp分别为i个波长的测量值,ψimod和Δimod分别为i个波长的计算值,δψ,iexp和δΔ,imod分别为i个波长的测量误差;从公式(1)中可以看出,MSE被测量误差加权,所以噪音大的数据被忽略掉,MSE越小表示拟合得越好;
通过上述反演计算可以得到薄膜材料的x-y方向折射率n与z方向折射率nz的折射率差Δn,同时得到薄膜的物理厚度df;
步骤S5:得到薄膜z方向与x-y平面的率差Δn后,利用公式(2)就可以得到薄膜材料的微区应力σ;
其中,σ为薄膜材料微区应力,B为薄膜的应力光学系数。
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