[发明专利]镀膜方法在审

专利信息
申请号: 201410716471.2 申请日: 2014-12-02
公开(公告)号: CN105709994A 公开(公告)日: 2016-06-29
发明(设计)人: 戴丰源;刘日成;叶鸿链;李汉隆;曾顺吉;马宏俊 申请(专利权)人: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
主分类号: B05C5/00 分类号: B05C5/00;B05C11/10
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 代理人: 谢志为
地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 镀膜 方法
【权利要求书】:

1.一种镀膜方法,用于对工件进行镀膜,其包括如下步骤:

提供一种镀膜装置与待镀膜工件,该待镀工件包括内表面、外表面以及连接该内表面与该外表面之间的端面,该镀膜装置包括承载底座、盖板、抽真空装置、注胶装置、以及固化装置,该待镀膜工件固定在该承载底座上,该盖板覆盖在该承载底座上,该盖板与该待镀膜工件的外表面之间形成一个型腔,该盖板还开设有与该型腔相通的流道,注胶装置与该流道相连接,该承载底座开设有直达该内表面的贯通孔,该抽真空装置与该贯通孔相连;

开启该抽真空装置,将该待镀膜工件固定在该承载底座上;

利用该注胶装置向该型腔中注入液态材料;

利用固化装置对型腔中的液态材料进行固化;

开启该镀膜装置,取出镀膜完毕的工件。

2.如权利要求1所述的镀膜方法,其特征在于,该盖板开设有直达型腔的抽气通孔。

3.如权利要求2所述的镀膜方法,其特征在于,该承载底座包括一个开设在其中心处的收容空间以及收纳于该收容空间中的载台,该载台大致呈T型,其包括底柱、吸附部以及位于底柱座与吸附部之间的外延平台,该底柱位于该收容空间内,该吸附部与该外延平台均位于该收容空间外,该吸附部与该待镀膜工件内表面相匹配,该外延平台与该内表面形成一个密闭的空间,该吸附部上开设有复数环形的第一吸附通道以及通过复数环形的第一吸附通道径向的第二吸附通道,该复数第一吸附通道通过该第二吸附通道与该贯通孔相通。

4.如权利要求1所述的镀膜方法,其特征在于,还包括在该待镀工件被镀膜之前利用电浆清洁机对该待镀工件进行清洁处理的步骤。

5.如权利要求1所述的镀膜方法,其特征在于,还包括提供取出放置装置的步骤,该取出放置装置用于将该待镀膜工件固定在该承载底座上以及取出镀膜完毕的工件,该取出放置装置包括竖直支撑部、与竖直支撑部垂直连接的水平工作杆及与该水平工作杆相连接的吸嘴,该水平工作杆能沿该竖直支撑部滑动,该工作杆能沿水平方向上伸缩。

6.如权利要求5所述的镀膜方法,其特征在于,该承载底座还包括距离调节装置,该距离调节装置用于调节该承载底座与该盖板之间的距离,该距离调节装置位于该承载底座的四个边角处,该距离调节装置包括固定柱与位于固定柱中的伸缩杆,该伸缩杆能收容在固定柱中;该伸缩杆能相对于该固定柱作缩进运动从而实现该镀膜装置的开模与合模。

7.如权利要求6所述的镀膜方法,其特征在于,在固定该待镀膜的工件后、向该型腔中注入液态材料之前,还包括利用真空装置对该型腔进行抽真空的步骤。

8.如权利要求3所述的镀膜方法,其特征在于,该承载底座还包括一个位于该收容空间外侧的凹槽,该凹槽固定设置有一个密封片,该密封片包括一个开口,该开口暴露该凸台,该密封片暴露或者密封该端面。

9.如权利要求8所述的镀膜方法,其特征在于,该承载底座还开设有排气孔,该排气孔呈L型,该排气孔与该凹槽和该抽真空装置相通,用于将该密封片固定设置在凹槽中。

10.如权利要求1所述的镀膜方法,其特征在于,该盖板为透明材料,该承载底座为透明材料或者金属。

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