[发明专利]一种反应釜

说明书

技术领域

 本发明属于化学反应设备，尤其是涉及一种反应釜。

背景技术

反应釜是化工技术领域中的常用设备，即物理或化学反应的容器，通过对容器的结构设计与参数配置，实现工艺要求的加热、蒸发、冷却及低高速的混配功能。不同物质在混配过程中具有不同的需求，比如高温、高压、隔绝空气等。在实际应用中，为了让反应釜内的物质充分反映，通常都在反应釜内加装搅拌棒，使得不同的物质接触充分，反应彻底。遇到需要加热的反应时，就需要在反应釜上安装加热装置，通常加热装置安装在反应釜底部，使得反应釜底部的温度始终比顶部的高，外部温度始终比内部高，温度分布不均匀。同时设置在反应釜内的搅拌棒需要传动搅拌，这使得反应釜不在是一体式密封结构，需要额外的加装密封件，长时间使用后，密封件老化或者磨损，并不能保证连接处的密封性，会造成反应釜的泄露或者压力不足。

发明内容

本发明针对现有技术中的不足，提供了一种反应釜，能让釜体在外力的作用下做出无规则的旋转运动，使得加热装置可以充分接触到釜体各个部位，让釜体内的反应物均匀受热；同时釜体内没有搅拌机构，而是利用釜体旋转时产生的离心力进行搅拌，无需加装多余的密封元件，不仅减少了泄露的风险，还能在搅拌过程中保持釜体内的压力。

为了解决上述技术问题，本发明通过下述技术方案得以解决：一种反应釜，包括主体，所述的主体上设置有支撑横梁和放置台，还包括球形釜体，所述的球形釜体上设置有物料孔，所述的物料孔上密封设置有弧形物料盖，所述的球形釜体包括外表层、中间层和内里层，所述的外表层由铜合金制成，所述的中间层由不锈钢制成，所述的内里层由陶瓷制成，所述的放置台上设置有若干个均匀圆周分布的支架，所述的支架上转动设置有与所述球形釜体相接触的驱动轮，所述的支架上还设置有与所述球形釜体相配合的滚动支撑件，所述的球形釜体上设置有与所述弧形物料盖相配合的导向凹槽，所述的导向凹槽内设置有弧形不锈钢带，所述的放置台上还移动设置有与所述导向凹槽相配合的导向杆，所述的导向杆上设置有与所述弧形不锈钢带相配合的块状电磁铁，所述的支撑横梁上设置有弧形滑道，所述的弧形滑道上移动设置有与所述弧形物料盖相配合的输送器，所述的放置台上还还设置有升降台，所述的升降台位于所述支架下方，所述的升降台上设置有与所述球形釜体相配合的加热装置。

上述技术方案中，优选的，所述的滚动支撑件包括支撑杆，所述的支撑杆顶部设置有支撑块，所述的支撑块上设置有弧形凹槽，所述的弧形凹槽上过盈安装有滚珠球，所述的滚珠球接触所述的球形釜体。

上述技术方案中，优选的，所述的驱动轮与所述的支架之间设置有电动转轴，所述的电动转轴上设置有微型马达，所述的微型马达驱动所述的驱动轮旋转。

上述技术方案中，优选的，所述的弧形物料盖表面设置有十字形凹槽，所述的十字形凹槽内表面为不锈钢材质，所述的弧形物料盖上设置有与所述物料孔相配合的螺纹柱，所述的物料孔内表面设置有与所述螺纹柱相配合的螺纹，所述的螺纹柱底面是与所述球形釜体内表面相配合的曲面，所述的物料孔上设置有若干个与所述螺纹柱相配合的甲密封挡圈，所述的球形釜体外表面上设置有与所述弧形物料盖相配合的浅槽，所述的浅槽上设置有与所述弧形物料盖相配合的乙密封挡圈，所述的浅槽上还设置有环绕所述物料孔的环形凹槽，所述的环形凹槽内表面由不锈钢制成。

上述技术方案中，优选的，所述的输送器包括与所述弧形滑道连接的转动台，所述的转动台上设置有连接气缸，所述的连接气缸上设置有转轴，所述的转轴上设置有放置平台，所述的放置平台上设置有进料口、与所述物料盖孔相配合的出料管和与所述弧形物料盖相配合的旋转器，所述的旋转器上设置有与所述的十字形凹槽相配合的十字形磁铁，所述的出料管上设置有与所述环形凹槽相配合的环形电磁铁，所述的进料口设置有控制阀。

上述技术方案中，优选的，所述的升降台与所述的放置台之间设置有升降气缸，所述的加热装置为电磁加热器。