[发明专利]钕铁硼磁体的补角方法有效
申请号: | 201410697574.9 | 申请日: | 2014-11-26 |
公开(公告)号: | CN104475735A | 公开(公告)日: | 2015-04-01 |
发明(设计)人: | 刘宇晖;王志坚;欧阳宇平;苏正夫;朱望伟;邵春欣;屈啸 | 申请(专利权)人: | 湖南稀土金属材料研究院 |
主分类号: | B22F3/24 | 分类号: | B22F3/24 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 吴贵明 |
地址: | 410126 湖南省长沙*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 钕铁硼 磁体 补角 方法 | ||
技术领域
本发明涉及钕铁硼磁体修补领域,特别地,涉及一种钕铁硼磁体的补角方法。
背景技术
钕铁硼永磁材料是一种能量密度很高的贮能器,利用它可以高效率地实现能量和信息的相互转换,而它本身的能量却并不消耗。因此自1983年问世以来,已成为磁性能最高、应用最广、发展速度最快的新一代稀土永磁材料,且已成为计算机、信息、通讯、汽车、核磁共振成像和计算机硬盘驱动等高新技术产业的主要配套元件。
钕铁硼永磁材料目前主要工艺是粉末冶金法,毛坯经过后续处理之后成为成品为下游客户使用,整个工艺流程为配料→熔炼→氢碎→制粉→成型→烧结→机加工→表面处理。由于特定的冶金方法,钕铁硼磁体脆性强,对产品的机加工带来了一定的难度,在加工过程中不可避免地产生缺角、崩边的现象,大大降低产品合格率。钕铁硼磁体的材料成本高,不合格品给企业带来严重损失,将不合格品回炉处理虽可以降低成本,但是工艺相对复杂,且质量不易控制。若能将不合格品直接进行返修成为合格品出售,可以将成本降至最低。90%的缺角产品只是外观不合格或是缺角部位应力集中可能会引起第二次缺陷,而基本不影响产品的主要磁性能,因此缺角产品可以直接进行返修。
据查目前没有相关的文献发表。但经过调研,行业内对钕铁硼磁体的缺角产品返修的方法是对其进行补角。
方法一:缺角品抛光→硝酸腐蚀→焊锡丝焊接补角→水洗→加工成规定尺寸→镀锌等表面处理。
方法二:缺角品抛光→涂上焊锡膏→焊锡丝焊接补角→加工成规定尺寸→镀锌等表面处理。
方法一中用硝酸腐蚀虽然可去锈和氧化皮,但是同时硝酸对基体的伤害较大,会造成基体的深度腐蚀和周边组织的浸润腐蚀,经表面处理后盐雾难以达到标准要求。此外还存在焊锡与基体的结合力不强的问题,对产品终端使用带来隐患。
方法二中改用焊锡膏,可以提高焊锡丝在基体上的附着力,对低温进行的表面处理如镀锌,可以满足要求,但是在补角后的钕铁硼磁体进行工艺温度稍高的镀铜时,焊锡膏则会再溶解渗出,在镀层的表面形成突出点,外观无法达到要求。
这两种方法都存在一定的弊端和局限性,对表面处理要求高和使用在高端领域的产品无法满足。
发明内容
本发明目的在于提供一种钕铁硼磁体的补角方法,以解决传统的补角方法焊锡与钕铁硼磁体结合力弱,在电镀时焊锡膏溶解渗出的技术问题。
为实现上述目的,本发明采用的技术方案如下:
一种钕铁硼磁体的补角方法,包括:
步骤1)清洗钕铁硼磁体的缺角处。
步骤2)利用助焊剂涂覆缺角,利用熔融焊锡丝填满缺角,得到补好角的钕铁硼磁体,助焊剂为氯化锌络合物酸性溶液。
进一步地,氯化锌络合物溶液的浓度为2~10mol/L。
进一步地,步骤1)包括:
检查缺角处是否有氧化黑皮;
若无氧化黑皮,水洗缺角处;
若有氧化黑皮,采用清洗剂对缺角处进行清洗,若未清洗干净,继续用砂纸磨光后,用水清洗,清洗剂为体积比为0.5%~63%的无机酸水溶液。
进一步地,砂纸为600~1000目砂纸。
进一步地,在步骤2)中,采用焊锡丝蘸取带动助焊剂涂覆于缺角处及缺角边缘,使用电烙铁将焊锡丝熔融至缺角处。
进一步地,焊锡丝为T5Sn95、Sn9800、Sn9900或Sn9930焊锡丝。
进一步地,步骤2)中利用熔融焊锡丝填满缺角还包括:
检查缺角上附着的熔融焊锡丝与缺角的边缘处是否存在裂缝,若有裂缝,继续利用熔融焊锡丝填充裂缝。
进一步地,还包括将补好角的钕铁硼磁体进行机加工。
进一步地,还包括对机加工后的钕铁硼磁体进行表面处理。
进一步地,表面处理为将加工后的钕铁硼磁体进行阴极电泳,电泳过程中的固化温度为140~160℃,固化时间为1~5小时。
本发明具有以下有益效果:本发明的钕铁硼磁体的补角方法采用氯化锌络合物溶液为助焊剂,可增强焊锡与钕铁硼磁体的结合力,并且不需要使用焊锡膏,避免了钕铁硼磁体在进行电镀时,焊锡膏再溶解渗出。
除了上面所描述的目的、特征和优点之外,本发明还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图,对本发明作进一步详细的说明。
附图说明
构成本申请的一部分的附图用来提供对本发明的进一步理解,本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明,并不构成对本发明的不当限定。在附图中:
图1是本发明优选实施例的钕铁硼磁体的补角方法的流程图。
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